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发明名称
FOTOELEKTRISCHE ABTASTVORRICHTUNG FUER LOCHKARTEN OD. DGL.
摘要
申请公布号
DE1911769(U)
申请公布日期
1965.03.11
申请号
DE196200S2099U
申请日期
1962.07.30
申请人
SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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