发明名称 |
SUBSTRAT EN CERAMIQUE MONOLITHIQUE, SON PROCEDE DE CONCEPTION ET DE FABRICATION ET DISPOSITIF ELECTRONIQUE L'UTILISANT |
摘要 |
<P>Dans un corps d'empilement brut (2) incluant une pluralité de couches brutes de base (11) et une pluralité de couches brutes de restriction de retrait (12) pour former un substrat en céramique monolithique en utilisant un processus sans retrait, les couches brutes de restriction qui sont en contact avec les surfaces principales des couches brutes de base individuelles présentent des épaisseurs différentes de telle sorte qu'une couche brute de restriction relativement plus épaisse soit en contact avec une couche brute de base relativement plus épaisse et qu'une couche brute de restriction relativement plus mince soit en contact avec une couche brute de base relativement plus mince.</P> |
申请公布号 |
FR2807612(A1) |
申请公布日期 |
2001.10.12 |
申请号 |
FR20010004850 |
申请日期 |
2001.04.10 |
申请人 |
MURATA MANUFACTURING CO LTD |
发明人 |
NISHIDE MITSUYOSHI;SAKAI NORIO;BABA AKIRA |
分类号 |
C04B41/87;C04B35/64;H01L21/48;H01L23/12;H01L23/498;H05K1/03;H05K3/46 |
主分类号 |
C04B41/87 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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