| 主权项 |
1.一种雷射共振腔对光调整装置,其主要结构系包括有:一雷射基座,其内部包含一雷射室,可供装设雷射二极体,而前端则设有一固定座,该固定座系为一半圆环态样,并于其内环表面形成一凹槽;一固定上盖,该固定上盖系为一半圆环,可与雷射基座之固定座结合为一完整圆环,其内环表面亦为一凹槽,可与固定座之凹槽结合而形成一固定室;及一调整体,该调整体主要系为一共振腔固定球连接一调整杆,其中该共振腔固定球设有一通过球心之共振腔室,使设置雷射共振腔,可将设有雷射共振腔之共振腔固定球置入雷射基座之固定座中,藉以对雷射帮浦光束与雷射共振腔间之入射角及偏振角度之匹配做全方位之调整,待调整完成后以固定上盖加以固定,即可达到最高之输出功率。2.如申请专利范围第1项所述之调整装置,其中该调整体中,其共振腔固定球系由一球体截去相对的两侧所形成,而共振腔室之两侧开口则分别位于球体两侧截面之中心位置。3.如申请专利范围第2项所述之调整装置,其中该调整杆系为一中空之杆体,连接于该共振腔固定球之其中一截面上,可使由雷射共振腔射出之光束由其中空部分穿射而过者。4.如申请专利范围第2项所述之调整装置,其中该共振腔固定球设有一槽口,该槽口由球体表面贯通至共振腔室,可方便雷射共振腔之放置;另设有一共振腔固定片 可套入该槽口而固定雷射共振腔者。5.如申请专利范围第3项所述之调整装置,其中该调整杆内中空部分可增设一镜片组。6.如申请专利范围第1项所述之调整装置,其中该共振腔固定球设有一槽口,该槽口由球体表面贯通至共振腔室,可方便雷射共振腔之放置;另设有一共振腔固定片,可套入该槽口而固定雷射共振腔者。7.如申请专利范围第1项所述之调整装置,其中该固定上盖系以螺丝锁固于雷射基座之固定座。8.如申请专利范围第1项所述之调整装置,其中该雷射基座固定座之凹槽系为一球面凹槽。9.如申请专利范围第1项所述之调整装置,其中该固定上盖之凹槽系为一球面凹槽。图式简单说明:第一图:系本创作一较佳实施例之立体分解图;第二图:系如第一图所示调整装置之雷射基座截面图;第三图:系如第一图所示调整装置之调整体截面图;及第四图:系如第一图所示调整装置之截面动作示意图。 |
