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1.一种制备乙烯基聚丁二烯之方法,其包括在气相反应器内于存在一种触媒之聚合条件下使用一种惰性气体聚合1,3-丁二烯,该触媒包括:(a)一种钴化合物;(b)一种化合物,选自包括膦、黄原、硫氰化物、二硫化碳与其混合物;及(c)一种有机铝化合物;其附带条件是当采用一种钴膦时,不需使用其他膦(b)。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中系在聚合反应中使用一种惰性微粒子物质。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中该钴化合物系选自包括无机酸之钴盐;有机酸之钴盐;钴错合物;高级脂肪酸之钴盐;经烷基、芳基、芳烷基取代苯甲酸之钴盐;酸钴;经烷基、芳烷基及芳基取代酸之钴盐;及其混合物。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中(b)之膦为具有式PR4R5R6之三级膦,其中P为磷,且R4.R5.R6为相同或不同,其为烷基、芳基或氢;其中黄原系选自包括硫化二乙基黄原、硫化二甲基黄原、硫化苯基黄原、硫化甲苯基黄原及其混合物;及其中硫异氰化物系选自包括苯基异硫氰化物、甲苯基异硫氰化物及其混合物。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该有机铝系由下式之一表示:(I)AlR3(II)AlR1mX3-m(III)AlRn2(OR3)3-n其中R、R1.R2.R3为相同或不同,且为具有1至12个碳原子(以1至8个碳原子为佳)之直链或分枝烷基,芳基(例如苯基或甲苯基),或氢;X系卤素(F、Cl、Br与I,以Cl为佳);m为0.1.1.5或2;且n为1或2;其中在(IV)与(V)中,每个R为相同或不同,且为烃基,及m表示2至100之整数。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中该触媒另外包含一种改质剂,选自包括醯胺、芳族醛、三级胺及其混合物。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中该触媒包含CoBr2(PPh3)2与MAO,且以钴对有机铝之比率为1:40-400采用。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中该触媒包含CoCl2(啶)4.PPh3与MAO,其比率为1:0.5-2:40-400。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中(a):(b):(c)之用量自1:0.1:10至1:10:1000。10.一种由申请专利范围第1项方法制得之粒状且自由流动的树脂粒子,其包含一个核心与一个外壳,其中该核心包含惰性微粒子物质与乙烯基聚丁二烯之混合物,其中该核心混合物包含大于50%乙烯基聚丁二烯,而该外壳包含惰性微粒子物质之混合物,其中该外壳混合物包含大于50%惰性微粒子物质;且其中该粒子具有钴残留量自2ppm至200ppm。11.一种由申请专利范围第1项方法制得之包括外壳与内部核心的树脂粒子,该外壳具有惰性微粒子物质与乙烯基聚丁二烯聚合物之混合物,以该外壳重量为基准,存在于该外壳中之惰性微粒子物质含量系高于75重量%,该内部核心具有该乙烯基聚丁二烯聚合物与该惰性微粒子物质之混合物,以该内部核心重量为基准,存在于该内部核心中之乙烯基聚丁二烯量系高于90重量%。 |
