| 主权项 |
1.一种用以处理影像之方法,包括步骤:由立体模造所产生之多个物件(Ob1,Ob2)之布置,建立至少一虚拟平面(50);及呈现由光源(52)作为视点投射物件(Ob1)之一阴影(56)于距光源(52)较之物件(Ob1)为远之物件(Ob2)上。2.如申请专利范围第1项所述之方法,另包括步骤:订定有关阴影(56)是否欲呈现于物件(Ob1,Ob2)上之阴影呈现属性于物件(Ob1,Ob2)之光源处理属性中;及根据阴影呈现属性,选择呈现阴影(56)于物件(Ob2)上。3.如申请专利范围第1项所述之方法,另包括步骤:建立一阴影平面(150),此用作与虚拟平面(50)相对应之一纹理平面;制造由投影于虚拟平面(50)上所形成之物件(Ob1)之阴影(56)于阴影平面(150)上;及经由纹理映射法映射制造于影平面(150)上之阴影(56)于另一物件(Ob2)上。4.如申请专利范围第3项所述之方法,其中,该经由纹理映射法映射阴影(56)于物件(Ob2)上之步骤包括步骤:根据该另一物件(Ob2)投影于虚拟平面(50)上之坐标,经由纹理映射法映射阴影(56)于该另一物件(Ob2)上。5.如申请专利范围第3项所述之方法,其中,经由纹理映射法映射阴影(56)于另一物件(Ob2)上之步骤包括步骤:在另一物件(Ob2)之每一多角形上,经由纹理映射法映射阴影(56)于该另一物件(Ob2)上。6.如申请专利范围第3项所述之方法,另包括步骤:以光源(52)为视点,决定物件(Ob1,Ob2)之坐标;决定物件(Ob1,Ob2)在离开光源(52)之方向上连续投影于虚拟平面(50)上之坐标;及每次完成纹理映射于物件(Ob1,Ob2)之一上时,根据投影坐标,制造由物件(Ob2)产生之阴影于阴影平面(150)上。7.如申请专利范围第6项所述之方法,另包括步骤:决定物件(Ob1,Ob2)之坐标,及物件(Ob1,Ob2)之有关物件(Ob1,Ob2)之每一多角形在虚拟平面(50)上之投影坐标;在离开光源(52)之方向上连续登记所决定之坐标于一造像表(116)中;及连续读出造像表(116)中所登记之坐标,俾制造阴影(56)于阴影平面(150)上。8.如申请专利范围第6项所述之方法,另包括步骤:对制造于阴影平面(150)上之阴影(56)执行至少视离光源(52)之距离而定之低通滤波,俾从而施加视至少距光源(52)之距离而定之模糊于阴影(56)上。9.如申请专利范围第8项所述之方法,另包括步骤:视接受低通滤波前之阴影,接受低通滤波后之阴影,及欲处理之物件之光源坐标而定,依据造像法制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)在其呈现于物件(Ob2)时加以内插,俾从而控制阴影(56)之模糊。10.如申请专利范围第6项所述之方法,另包括步骤:制备一基准阴影平面(150)及一产生阴影平面(152)作为该阴影平面;每次欲处理之物件自一转换至另一时,拷贝在产生阴影平面(152)上所制造之阴影(56)于基准阴影平面(150)上;及每次在基准阴影平面(150)上之有关一物件之每一多角形之阴影(56)经由纹理映射法映射时,制造该多角形之投影(54)于虚拟平面(50)上,作为产生阴影平面(152)上之一新联合阴影(56)。11.如申请专利范围第10项所述之方法,另包括步骤:每次制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)拷贝于基准阴影平面(150)上时,对制造于产生阴形平面(152)上之阴影(56)执行低通滤波。12.如申请专利范围第11项所述之方法,另包括步骤:除基准阴影平面(150)及产生阴影平面(152)作为阴影平面外,另制备一背景阴影平面(192),此为与位于欲处理之物件后面之背景虚拟平面相对应之一纹理平面,以光源(52)为视点;制造由投射于虚拟平面(50)上之一阴影(204)投射于背景虚拟平面上所形成之一阴影于背景阴影平面(192)上;及经由纹理映射法映射在欲处理之物件上所呈现之一阴影,同时根据制造于基准阴影平面(150)上之阴影(204),制造于背景阴影平面(192)上之阴影,及物件之光源坐标,依据造像法内插该阴影。13.如申请专利范围第3项所述之方法,另包括步骤:建立一伸长光源(210),作为阴影平面(150)之初始値;及反射该伸长光源(210),并形成其一阴影于该物件上。14.一种用以处理影像之装备,包含:第一装置(102),用以由立体模造所产生之多个物件(Ob1,Ob2)之布置,建立至少一虚拟平面(50);及第二装置(104),用以呈现由光源(52)作为视点而投射于虚拟平面(50)上之物件(Ob1)之一阴影(56)于距光源较之物件(Ob1)为远之物件(Ob2)上。15.如申请专利范围第14项所述之装备,其中,第一装置(102)含有装置,用以订定有关阴影(56)是否欲呈现于物件(Ob1,Ob2)上之阴影呈现属性于物件(Ob1,Ob2)之光源处理属性中;且其中,第二装置(104)含有装置,用以根据阴影呈现属性,选择呈现阴影(56)于物件(Ob2)上。16.如申请专利范围第14项所述之装备,其中,第二装置(104)具有造像装置(106),用以建立一阴影平面(150),此用作与虚拟平面(50)相对应之一纹理平面;制造由投影于虚拟平面(50)上所形成之物件(Ob1)之阴影(56)于阴影平面(150)上;及经由纹理映射法映射制造于影平面(150)上之阴影(56)于另一物件(Ob2)上。17.如申请专利范围第16项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以根据该另一物件(Ob2)投影于虚拟平面(50)上之坐标,经由纹理映射法映射影(56)于另一物件(Ob2)上。18.如申请专利范围第16项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以经由纹理映射法映射阴影(56)于另一物件(Ob2)之有关该另一物件(Ob2)之每一多角形上。19.如申请专利范围第16项所述之装备,其中,该第二装置(104)包含坐标计算装置(138),用以以光源(52)为视点,决定物件(Ob1,Ob2)之坐标;并连续决定物件(Ob1,Ob2)在离开光源(52)之方向上投影于虚拟平面(50)上之坐标;且其中,该造像装置(106)含有装置,用以在每次完成纹理映射于物件(Ob1,Ob2)之一上时,根据投影坐标,制造由物件(Ob1)形成于阴影平面(150)上之阴影(56)。20.如申请专利范围第19项所述之装备,其中,该第二装置(106)包含造像表产生装置(142),用以决定物件(Ob1,Ob2)之坐标,及物件(Ob1,Ob2)在物件(Ob1,Ob2)之每一多角形方面之投影于虚平面(50)上坐标;及在离开光源(52)之方向上连续登记所决定之坐标于一造像表(116)中;且其中,造像装置(106)含有装置,用以连续读出造像表(116)中所登记之坐标,俾制造阴影(56)于阴影平面(150)上。21.如申请专利范围第19项所述之装备,其中,造像装置(106)含有装置,用以对制造于阴影平面(150)上之阴影(56)执行至少视离光源(52)之距离而定之低通滤波,俾从而施加视至少距光源(52)之距离而定之模糊于阴影(56)上。22.如申请专利范围第21项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以视接受低通滤波前之阴影,接受低通滤波后之阴影,及欲处理之物件之光源坐标而定,对依据造像法制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)在其呈现于物件(Ob2)上时加以内插,俾从而控制影(56)之模糊。23.如申请专利范围第19项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以制备一基准阴影平面(150)及一产生阴影平面(152)作为该阴影平面;且每次欲处理之物件自一转换至另一时,拷贝在产生阴影平面(152)上所制造之阴影(56)于基准阴影平面(150)上;且每次在基准阴影平面(150)上之有关一物件之每一多角形之阴影(56)经由纹理映射法映射时,制造多角形之投影(54)于虚拟平面(50)上,作为产生阴影平面(152)上之一新联合阴影(56)。24.如申请专利范围第23项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以每次制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)拷贝于基准阴影平面(150)上时,对制造于产生阴影平面(152)上之阴影执行低通滤波。25.如申请专利范围第24项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以除基准阴影平面(150)及产生阴影平面(152)作为阴影平面外,另制备一背景阴影平面(192),此为与位于欲处理之物件后面之背景虚拟平面相对应之一纹理平面,以光源(52)为视点;制造由投射于虚拟平面(50)上之一阴影(204)投射于背景虚拟平面上所形成之一阴影于背景阴影平面(192)上;及经由纹理映射法映射在欲处理之物件上所呈现之一阴影,同时根据制造于基准阴影平面(150)上之阴影(204),制造于背景阴影平面(192)上之阴影,及物件之光源坐标,依据造像法内插该阴影。26.如申请专利范围第16项所述之装备,其中,该造像装置(106)含有装置,用以建立一伸长光源(210),作为阴影平面(150)之初始値;及反映该伸长光源(210),并形成其一阴影于该物件上。27.一种储存程式之记录媒体,包括步骤:(a)由立体模造所产生之多个物件(Ob1,Ob2)之布置,建立至少一虚拟平面(50);及(b)呈现由光源(52)作为视点投射于虚拟平面(50)上之物件(Ob1)之一阴影(56)于距光源较之物件(Ob1)为远之物件(Ob2)上。28.如申请专利范围第27项所述之记录媒体,其中,该步骤(a)包括步骤:订定有关阴影(56)是否欲呈现于物件(Ob1,Ob2)上之阴影呈现属性于物件(Ob1,Ob2)之光源处理属性中;及该步骤(b)包括步骤:根据阴影呈现属性,选择呈现阴影(56)于物件(Ob2)上。29.如申请专利范围第27项所述之记录媒体,其中,该步骤(b)包括步骤:(c)建立一阴影平面(150),此用作与虚拟平面(50)相对应之一纹理平面;制造由投影于虚拟平面(50)上所形成之物件(Ob1)之阴影(56)于阴影平面(150)上;及经由纹理映射法映射制造于影平面(150)上之阴影(56)于另一物件(Ob2)上。30.如申请专利范围29项所述之记录媒体,其中,步骤(c)另包括步骤:根据该另一物件(Ob2)投影于虚拟平面(50)上之坐标,经由纹理映射法映射阴影(56)于该另一物件(Ob2)上。31.如申请专利范围第29项所述之记录媒体,其中,步骤(c)另包括步骤:经由纹理映射法映射阴影(56)于另一物件(Ob2)之该另一物件上(Ob2)之每一多角形上。32.如申请专利范围第29项所述之记录媒体,其中,步骤(b)另包括步骤:以光源(52)为视点,决定物件(Ob1,Ob2)之坐标;及决定物件(Ob1,Ob2)在离开光源(52)之方向上连续投影于虚拟平面(50)上之坐标;且其中,步骤(c)另包括步骤:每次完成纹理映射于物件(Ob1,Ob2)之一上时,根据投影坐标,制造由物件(Ob1)产生于阴影平面(150)上之阴影(56)。33.如申请专利范围第32项所述之记录媒体,其中,步骤(b)另包括步骤:决定物件(Ob1,Ob2)之坐标,及物件(Ob1,Ob2)在物件(Ob1,Ob2)之每一多角形方面之投影于虚拟平面(50)上之坐标;及在离开光源(52)之方向上连续登记所决定之坐标于一造像表(116)中;且其中,步骤(c)另包括步骤:连续读出造像表(116)中所登记之坐标,俾制造阴影(56)于阴影平面(150)上。34.如申请专利范围第32项所述之记录媒体,其中,该步骤(c)另包括步骤:对制造于阴影平面(150)上之阴影(56)执行至少视离光源(52)之距离而定之低通滤波,俾从而施加视至少距光源(52)之距离而定之模糊于阴影(56)上。35.如申请专利范围第34项所述之记录媒体,其中,该步骤(c)另包括步骤:视接受低通滤波前之阴影,接受低通滤波后之阴影,及欲处理之物件之光源坐标而定,依据造像法制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)在其呈现于物件(Ob2)上时加以内插,俾从而控制阴影(56)之模糊。36.如申请专利范围第29项所述之记录媒体,其中,该步骤(c)另包括步骤:制备一基准阴影平面(150)及一产生阴影平面(152)作为该阴影平面;且每次欲处理之物件自一转换至另一时,拷贝在产生阴影平面(152)上所制造之阴影(56)于基准阴影平面(150)上;且每次在基准阴影平面(150)上之有关一物件之每一多角形之阴影(56)经由纹理映射法映射时,制造多角形之投影(54)于虚拟平面(50)上,作为产生阴影平面(152)上之一新联合阴影(56)。37.如申请专利范围第36项所述之记录媒体,其中,该步骤(c)另包括步骤:每次制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)拷贝于基准阴影平面(150)上时,对制造于产生阴影平面(152)上之阴影(56)执行低通滤波。38.如申请专利范围第37项所述之记录媒体,其中,该步骤(c)另包括步骤:除基准阴影平面(150)及产生阴影平面(152)作为阴影平面外,另制备一背景阴影平面(192),此为与位于欲处理之物件后面之背景虚拟平面相对应之一纹理平面,以光源(52)为视点;制造由投射于虚拟平面(50)上之一阴影(204)投射于背景虚拟平面上所形成之一阴影于背景阴影平面(192)上;及经由纹理映射法映射在欲处理之物件上所呈现之一阴影,同时根据制造于基准阴影平面(150)上之阴影(204),制造于背景阴影平面(192)上之阴影,及物件之光源坐标,依据造像法内插该阴影。39.如申请专利范围第29项所述之记录媒体,其中,该步骤(c)另包括步骤:建立一伸长光源(210),作为阴影平面(150)之初始値;及反映该伸长光源(210),并形成其一阴影于该物件上。40.一种处理影像之程式,包括步骤:(a)由立体模造所产生之多个物件(Ob1,Ob2)之布置,建立至少一虚拟平面(50);及(b)呈现由光源(52)作为视点而投射于虚拟平面(50)上之物件(Ob1)之一阴影(56)于距光源较之物件(Ob1)为远之物件(Ob2)上。图式简单说明:第一图为本发明之娱乐装置之方块图;第二图显示依本发明之投影处理;第三图为本发明之投影装置之功能方块图;第四图详细显示物件资讯表;第五图详细显示顶点资料档;第六图详细显示资料包;第七图为本发明之第一实施例之投影处理中之各种设定处理装置之功能方块图;第八图为本发明之第一实施例之投影处理中之造像表产生装置之功能方块图;第九图为本发明之第一实施例之投影处理中之造像装置之功能方块图;第十图显示对点光源执行投影处理之有效区;第十一图显示一物件之透视变换于虚拟平面上;第十二图显示本发明之第一实施例之投影处理之构想表示;第十三图为本发明之第一实施例之投影处理之顺序之流程图;第十四图为本发明之第一实施例之投影处理中之各种设定处理装置之操作顺序之流程图;第十五图及第十六图为本发明之第一实施例之投影处理中之造像表产生装置操作顺序之流程图;第十七图显示资料包之插入于造像表中;第十八图及第十九图为本发明之第一实施例之投影处理中之造像装置之操作顺序之流程图;第二十图显示本发明之第二实施例之投影处理中由分配光源产生全影及半影区于虚拟平面上;第二十一图显示本发明之第二实施例之投影处理中产生阴影平面接受视离光源之距离而定之低通滤波,以呈现视该距离而定之模糊(半影)之程度;第二十二图显示本发明之第二实施例之投影处理中每次处理物件时产生阴影平面接受低通滤波及在恒定距离上之产生阴影平面接受低通滤波;第二十三图显示本发明之第三实施例之投影处理中之三线性处理;第二十四图为本发明之第三实施例之投影处理中之各种设定处理装置之功能方块图;第二十五图为本发明之第三实施例之投影处理中之造像装置之功能方块图;第二十六图为本发明之第三实施例之投影处理中之各种设定处理装置之操作顺序之流程图;第二十七图及第二十八图为本发明之第三实施例之投影处理中之造像装置之操作顺序之流程图;第二十九图显示本发明之第三实施例之投影处理中沿多角形深度上逐渐改变形状及颜色之阴影;第三十图显示本发明之第四实施例之投影处理中伸长光源,诸如火焰之投影及由伸长光源投影于物件上之表示; 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