表面调理之抛光垫处理

摘要

一种抛光垫经处理以用于表面调理，系将该垫的抛光表面暴露在一种其溶解度参数与抛光垫材料之溶解度参数相差小于约百分之二十的化学溶剂中，其中该抛光表面相对于剩余的材料是较为软化的，以将抛光表面在表面处理上所花费的时间减到最低。

主权项

1.一种处理用于表面调理的抛光垫之方法,其中该 方法包含,以研磨粉扫除抛光垫上的抛光表面,其 进一步的特征为: 将抛光垫的材料上之抛光表面暴露在与提供抛光 表面之材料的溶解度参数相差小于约百分之二十 的化学溶剂中以软化该抛光表面,其中抛光表面相 对于剩余的材料是为软化的,藉以缩短抛光表面在 表面调理所需的时间。2.一种经以处理表面调理 的抛光垫,其包含: 一种在抛光垫上提供抛光表面的材料,其进一步的 特征为: 抛光表面被化学溶剂软化,其中相对于提供该抛光 表面的剩余材料而言,抛光表面被软化,以减少该 抛光表面在表面调理时所需的时间。