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1.一种紫外线安定剂混合物,其系包含: A)根据式(1)之羟基苯骈三唑: 其中: R1:H、C1-C18烷基、C5-C6环烷基或C6-C12芳基, R2:H、卤素或C1-C12烷基, R3:H、C1-C12烷基、卤素或C6-C12芳基, R4:H、C1-C18烷基或C6-C18芳基, 和 B)具式(2)或(3)之可水解环氧基矽烷: R5为具有至多9个碳原子之二价烃残基或具有至多9 个碳原子,且由C,H及O原子所组成之二价残基,其中O 原子系以一醚键残基存在; R6为具有至多4个碳原子之脂族烃基、具有至多4个 碳原子之醯残基或式(CH2CH2O)nZ之残基,其中n为至少 1且Z代表具有至多4个碳原子之脂族烃残基; m为0或1。2.根据申请专利范围第1项之紫外线安定 剂混合物,其中矽烷之环氧基对式(1)之羟基苯骈三 唑之莫耳比介于2.5及200之间。3.根据申请专利范 围第1或2项1紫外线安定剂混合物,其中式(1)之羟基 苯骈三唑为1-(3'-苯骈三唑-2"-基)-4'-羟苯基)-1,1-双( 4-羟苯基)乙烷。4.一种制造根据申请专利范围第1 至3项中任一项之紫外线安定剂混合物的方法,其 特征在于将式(1)之羟基苯骈三唑与含有环氧基之 可水解矽烷类均匀混合且加热至90℃至150℃历时30 至60分钟。5.一种矽氧烷系统,其系包含根据申请 专利范围第1至3项中任一项之紫外线安定剂混合 物、颗粒大小为1至100nm之颗粒材料,且系由选自Si 、Al、Sb和B以及过渡金属之氧化物、氧化物水合 物、氮化物及碳化物之化合物所组成,其中紫外线 安定剂混合物之存在量为相对于矽氧烷系统之固 体含量之0.3至20%。6.根据申请专利范围第5项之矽 氧烷系统,其中之过渡金属为Ti、Ce.Fe或Zr。7.一种 矽氧烷涂覆材料,其系包含根据申请专利范围第5 或6项之矽氧烷系统及视需要之由选自Si、Al、Sb和 B及过渡金属之氧化物、氧化物水合物、氮化物及 碳化物之化合物所组成之颗粒材料,其中该材料具 有颗粒大小在1至100nm之范围。8.根据申请专利范 围第5项之矽氧烷系统,其系用于涂覆基质材料。9. 根据申请专利范围第8项之矽氧烷系统,其中之基 质材料为热塑性塑胶。10.根据申请专利范围第8项 之矽氧烷系统,其中之基质材料为聚碳酸酯。 |
