| 主权项 |
1.一种紫外线安定剂混合物,包含: A)根据式(1)之羟基苯骈三唑: R1:H、C1-C18烷基、C5-C6环烷基或C6-C12芳基, R2:H、卤素(较佳为Cl)或C1-C12烷基, R3:一单键、C1-C12次烷基、C5-C6次环烷基或次苯基, R4:H、硷金属、铵、硷土金属、C1-C12烷基、 一 烷基,C6-C12芳基、或 芳基, 和 B)包含环氧基之可水解矽烷类, 其中矽烷之环氧基对式(1)之羟基苯骈三唑之莫耳 比为由1.4:1至100:1。2.根据申请专利范围第1项之紫 外线安定剂混合物,其中一种或多种选自下列之羟 基苯骈三唑被用作式(1)之羟基苯骈三唑:3.一种制 造根据申请专利范围第1或2项之紫外线安定剂混 合物的方法,其中将式(1)之羟基苯骈三唑与含有环 氧基之可水解矽烷混合且加热至至少90℃C历时至 少30分钟。4.根据申请专利范围第1或2项之紫外线 安定剂混合物,其系用于矽氧烷系统中;且其中羟 基苯骈三唑相对于矽氧烷系统之固体含量为0.3至 20。5.一种含有如申请专利范围第1或2项之紫外线 安定剂混合物之涂覆材料,其可选择地包含选自下 列之化合物所组成之颗粒材料:Si、Al、Sb和B及过 渡金属之氧化物、氧化水合物、氮化物及碳化物, 其中该材料具有颗粒大小在1至100nm之范围。6.根 据申请专利范围第5项之涂覆材料,其系用于涂覆 任意种类之基质材料。7.一种经涂覆之材料,其中 曝露于辐射之材料至少有表面被涂覆以根据申请 专利范围第5项之涂覆材料。8.根据申请专利范围 第7项之经涂覆之材料,其中该材料为聚碳酸酯。 |
