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发明名称 Verfahren zur Herstellung von photoelektrischen Baueinheiten vorgegebener Empfindlichkeit
摘要
申请公布号 CH391125(A) 申请公布日期 1965.04.30
申请号 CH19600002165 申请日期 1960.02.26
申请人 FORSCHUNGSLABORATORIUM PROF. DR.-ING. WALTER HEIMANN 发明人 JOHANNSON,HELMUT,DR.-ING.;DR.-ING. HEIMANN,WALTER,PROF.;TOPFER,FRANZ
分类号 G01J 主分类号 G01J
代理机构 代理人
主权项
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