发明名称 Serielles Verfahren zur Herstellung von Schichten und damit hergestellter Reflektor
摘要 Serielles Schichtbildungsverfahren, um sequentiell Aluminiumbedampfungsschichten und Schutzschichten aus polymerisiertem Silikonplasma auf einer Mehrzahl von Kunstharz-Grundmaterialien zu bilden. Die Schichten werden gebildet, indem eine Kassette, die die Kunstharz-Grundmaterialien aufnimmt, nacheinander der Reihe nach durch eine Aluminiumbedampfungskammer und eine Kammer zur Bildung von durch Plasma polymerisierten Schichten bewegt wird, damit ein Reflektor gebildet wird, der in einem Entladungsscheinwerfer montiert werden kann.
申请公布号 DE10115287(A1) 申请公布日期 2001.10.11
申请号 DE2001115287 申请日期 2001.03.28
申请人 KOITO MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 INABA, TERUAKI
分类号 F21S8/10;C23C14/20;C23C14/56;F21V7/00;F21V7/22;F21V17/00;G02B1/10;(IPC1-7):C23C14/20;C23C14/58 主分类号 F21S8/10
代理机构 代理人
主权项
地址