| 发明名称 | 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法 | ||
| 摘要 | 一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1－50%(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001－10%(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)用来将所述抛光组合物的pH值调节至2－5的缓冲组分，(d)水。 | ||
| 申请公布号 | CN1316477A | 申请公布日期 | 2001.10.10 |
| 申请号 | CN01104762.3 | 申请日期 | 2001.02.23 |
| 申请人 | 不二见美国股份有限公司 | 发明人 | D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 |
| 分类号 | C09G1/02;G11B5/73 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 白益华 |
| 主权项 | 1．一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)用来将所述抛光组合物的pH值调节至2-5的缓冲组分，(d)水。 | ||
| 地址 | 美国俄勒冈州 | ||