发明名称 CLEANING METHOD
摘要 PROBLEM TO BE SOLVED: To properly remove contaminants on a semiconductor substrate. SOLUTION: The surface of a semiconductor substrate is cleaned by blowing liquid nitrogen against the substrate.
申请公布号 JP2001274135(A) 申请公布日期 2001.10.05
申请号 JP20010027706 申请日期 2001.02.05
申请人 OKI ELECTRIC IND CO LTD 发明人 OGURA KEN
分类号 B08B3/08;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 B08B3/08
代理机构 代理人
主权项
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