| 摘要 |
<p>L'invention concerne un plateau porte-pièce pour polissage (1) constitué d'un corps principal (2) dans lequel sont pratiqués plusieurs trous traversants (4) destinés au maintien d'une pièce au moins par aspiration par le vide et d'une plaque arrière (5) disposée à l'arrière du corps principal (2). Ledit plateau est caractérisé en ce qu'il est pourvu de moyens de régulation de la température ou de moyens de refroidissement du corps principal (2). Ainsi, même lorsque le nombre d'opérations de polissage augmente lors du polissage de la pièce, la déformation thermique du corps principal dudit plateau et la déformation du film de résine recouvrant la surface de travail de la pièce peuvent être supprimées, sans détériorer la planéité de la pièce, ce qui permet de produire une pièce excellemment plate. L'invention concerne également un dispositif et un procédé de polissage.</p> |
