| 摘要 |
本发明涉及一种制备薄膜的方法,它包括以下几个步骤：通过第一个基质层(10)的表面和通过第二个基质层(20)的表面注入几种气体,这就能够在这些基质层中生成微型空腔(11,21)为每个基质层限定出一个薄层(13,23)它处在这些微腔与受注入面之间,在其注入以后这些微腔可引起薄层从其基质层脱离;把第一个基质层(10)组合到第二个基质层(20)上使得其受注入面正好相对;每个薄层(13,23)从其基质层(10,20)脱离,薄层之间彼此组合在一起形成所述的薄膜。本发明还涉及一种带有由该方法所制薄膜的结构。 |
| 主权项 |
1．薄膜(1,40)的制备方法，其特征在于，它包括以下几个步骤：通过第一个基质层(10)的表面(12)和第二个基质层(20)的表面(22)注入几种气体，就能在这些基质层中产生一些微型空腔(11,21)，其为每个基质层限定出一个薄层(13,23)，这种薄层处在这些微腔与注入面之间，这些微型空腔在其注入之后就能引起薄层从其基质层的脱离；-第一个基质层(10)组合在第二个基质层(20)上使注入面(12,22)正好彼此相对；-每个薄层从其基质层脱离，薄层(13,23)继续组合起来构成所述薄膜(1,40)。 |
