主权项 |
1.一种抗蚀剂图案之形成方法,其系在具有将抗蚀液涂布于基板之被处理面的步骤,和使用图案遮罩将由前述抗蚀液所形成的膜予以曝光之步骤,和前述曝光后,将显像液供给至基板的被处理面以实施显像的步骤之抗蚀剂图案的形成方法中,特征在于其中具有将含有亲水基之液体涂布于前述基板的被处理面,将前述基板之被处理面处理成亲水性的步骤,和在前述基板上之含有亲水基的液体之上将涂布液予以涂布的步骤。2.如申请专利范围第1项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述含有亲水基的液体系使前述涂布液的表面张力减少之物质。3.如申请专利范围第1项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述含有亲水基的液体为界面活性剂。4.如申请专利范围第1项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述涂布液为显像液。5.一种抗蚀剂图案的形成方法,其系在具有将抗蚀液涂布于基板的被处理面之步骤,使用图案遮罩将由前述抗蚀液所形成的膜予以曝光之步骤,和曝光后将显像液供给至前述基板的被处理面以实施显像的步骤之抗蚀剂图案的形成方法中,特征在于其中具有将含有亲油基之液体涂布于前述基板的被处理面,将前述基板之被处理面处理成亲水性的步骤,和在前述基板上之含有亲油基的液体之上将涂布液加以涂布的步骤。6.如申请专利范围第5项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述含有亲油基的液体系使前述涂布液的表面张力减少之物质。7.如申请专利范围第5项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述含有亲油基的液体为界面活性剂。8.如申请专利范围第5项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述涂布液为抗蚀液。9.如申请专利范围第5项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述涂布液为反射防止膜之药剂,且将前述抗蚀液涂布于前述基板的被处理面之前,前述被处理面上先形成有前述反射防止膜。10.一种成膜方法,特征在于其具有将涂布液涂布于基板上之步骤,和在将涂布液予以涂布之前,于基板上涂布使前述涂布液的表面张力减少之液体的步骤。11.如申请专利范围第10项之成膜方法,特征在于前述液体为界面活性剂。12.如申请专利范围第10项之成膜方法,特征在于前述涂布液为抗蚀液。13.如申请专利范围第10项之成膜方法,特征在于前述前述涂布液为显像液。14.如申请专利范围第10项之成膜方法,特征在于前述涂布液之溶剂为有机溶剂。15.一种成膜方法,特征在于其具备将含有亲水基的液体涂布于基板上之步骤,和在含有亲水基的液体之上将涂布液加以涂布之步骤。16.如申请专利范围第15项之成膜方法,特征在于前述含有亲水基的液体系使前述涂布液的表面张力减少之物质。17.如申请专利范围第15项之成膜方法,特征在于前述涂布液为显像液。18.一种成膜方法,特征在于其具备将含有亲油基的液体涂布于基板上之步骤,和在含有亲油基的液体之上将涂布液加以涂布之步骤。19.如申请专利范围第18项之成膜方法,特征在于前述含有亲油基的液体系使前述涂布液的表面张力减少之物质。20.如申请专利范围第18项之成膜方法,特征在于前述涂布液为抗蚀液。21.如申请专利范围第18项之成膜方法,特征在于前述前述涂布液之溶剂为有机溶剂。22.一种成膜方法,特征在于其具有将界面活性剂涂布于基板上之步骤,和在界面活性剂之上将涂布液予以涂布之步骤。23.一种成膜方法,特征在于其具有照射紫外线于基板之被处理面的步骤,和前述照射后,将涂布液涂布于前述被处理面之上的步骤。24.一种抗蚀剂图案的形成方法,特征在于其具有将第1界面活性剂涂布于基板上之步骤,和于前述第1界面活性剂之上涂布抗蚀液的步骤,和使用图案遮罩将由前述抗蚀液所形成的膜予以曝光之步骤,和前述曝光后,将显像液供给至前述基板以实施显像的步骤。25.如申请专利范围第24项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于涂布前述第1界面活性剂之前,进一步具有在前述基板上涂布第2界面活性剂的步骤,和将反射防止膜的药剂涂布于前述第2界面活性剂之上的步骤。26.如申请专利范围第24项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于前述曝光步骤后,前述显像步骤前进一步具有将第3界面活性剂涂布于前述基板上之步骤,且前述第3界面活性剂之上被供给以前述显像液。27.一种抗蚀剂图案的形成方法,特征在于其具有将第1界面活性剂与抗蚀液的混合物涂布于基板上之步骤,和使用图案遮罩将由前述抗蚀液所形成的膜予以曝光之步骤,和前述曝光后,将显像液供给至前述基板以实施显像的步骤。28.如申请专利范围第27项之抗蚀剂图案的形成方法,特征在于涂布前述第1界面活性剂之前,进一步具有将第2界面活性剂与抗蚀液的混合物涂布于前述基板上之步骤。图式简单说明:第一图A-第一图D系用以说明本发明之方法的一个实施态样之步骤图。第二图为示意实施本发明之方法的涂布显像装置之一例的平面图。第三图为示意实施本发明之方法的涂布显像装置之一例的斜视图。第四图为示意在本发明之方法的实施中所使用之搁板单元的剖面图。第五图A、第五图B为示意在本发明之方法的实施中所使用之涂布单元的剖面图与平面图。第六图为示意在本发明之方法的实施中所使用之晶圆搬送装置的斜视图。第七图A-第七图D所示为本发明之方法的一个实施态样之一部分的步骤图。第八图A、第八图B为用以说明本发明之方法的作用之剖面图。第九图A、第九图B为用以说明本发明之方法的另一个实施态样的图式。 |