发明名称 电浆处理装置
摘要 一种电浆处理装置具备感应结合型电浆产生机构,用以防止反应容器之侧壁部的恶化,提高反应容器之安全性,由反应容器之上部以淋浴状可导入反应气体。电浆处理装置,具备有:反应容器,备有电纳器12;反应气体供应机构,用以供应反应气体于反应容器内;排气机构24,用以排气反应容器之内部;及电浆生成机构;而反应容器系以金属材料所形成,电浆生成机构系用以产生感应电场至少包含一卷之线圈16,该线圈,系配置于电浆生成空间之周围,并以电介体15、17在包围之状态下设于反应容器之内部。
申请公布号 TW458486 申请公布日期 2001.10.01
申请号 TW089215748 申请日期 1997.06.30
申请人 安内华股份有限公司 发明人 沼阳一郎;长谷川也;塚田勉;高桥信行
分类号 H05H1/46 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种电浆处理装置,其特征在于:组合电介体之构件,包围住用以产生电浆的线圈,而将该线圈设于以金属材料所形成之反应容器的内部,该包围着前述线圈之电介体的构件,系由用以支持线圈之电介体支持部及筒形电介体壁所构成,而筒形电介体壁,系在反应容器内包围电浆生成空间所配置,进而,电介体支持部,系与反应容器之侧壁部接触所配置者。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中反应容器之上壁部系以侧壁部及旋转支持部结合于自由开关,同时在测壁部之端部设有密封材者。3.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,系在包围线圈组合之电介体的构件具有用以导入不活性气体之气体导入装置者。4.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,系具有第1装置,用以供给高频率电力于线圈,及第2装置,用以供给高频率电力于基板保持机构者。图式简单说明:第一图系有关本创作绝缘膜用电浆CVD装置之重要部分的纵剖面图。
地址 日本