| 主权项 |
1.一种染布机摆布装置之改良,系包括摆布器本体、入布孔、布水分离器、导流孔及摆布端等所构成;其特征为:该摆布器本体,于前端设有入布孔,入布孔并接续设置一法兰片以利与喷嘴装置衔接,其内置有布水分离器,与摆布器本体之间保持一间隔,而形成一导流空间,末端则设有导流孔以排出染液;该布水分离器,系为四面网板结构,前、后、左、右之各侧面皆设有数列网孔以导出染液,下端则凸设有摆布端,使布水分离器不受重力作用及摆布动作等影响,确保布水分离作用之结构改良者。图式简单说明:第一图系为习式摆布装置之立体示意图;第一图a系为习式摆布装置之实施示意图;第二图系为本创作之立体示意图;第三图系为本创作之剖面示意图;第三图a系为本创作之另一剖面示意图;第四图系为本创作之实施示意图;第五图系为本创作摆布装置之装设示意图;第六图系为本创作摆布装置位处中央时之布水分离示意图;第七图系为本创作摆布装置摆向左侧时之布水分离示意图;第八图系为本创作摆布装置摆向右侧时之布水分离示意图;第九图系为本创作实施于染布机之配置示意图; |
