| 主权项 |
1.一种用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,该机构系使用于一膜形成装置内,包含:一用以接收一基材之平台,该基材已被送入该膜形成装置以形成一膜于该基材上;一轴构件,其用以将支承该基材之平台由该平台接收该基材时之基材接收位置角位移至一膜形成位置,在该膜形成位置上该平台之基材支承面为垂直或实质上垂直;数个支持杆件,用以支持该基材之一面朝下的末端表面,当该平台被角位移至该膜形成位置时,其被设置以由该平台之该基材支承面突伸;及数个移动构件,用以移动该等支持杆件。2.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中该等移动构件使该等支持杆件在该平台上以平行于三维空间方向之一方向移动,或使该等支撑杆件在该平台上旋转地移动。3.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中该等移动构件使该等支持杆件朝向该轴杆件或远离该轴杆件移动。4.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中该等移动构件彼此与数个支持杆件连接,且可在一操作中移动数个支持杆件。5.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中数个移动构件被提供而各自与数个支持杆件连接,以独立移动数个支持杆件。6.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中该移动构件为一致动器。7.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中该等移动构件之每一个皆以一柱状形成。8.如申请专利范围第1项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的机构,其中该基材为一玻璃基材或一半导体晶圆。9.一种用以支持一欲以一膜涂敷之基材的方法,该方法系使用于一膜形成装置内,包含下列步骤:将一欲以一膜涂敷且已被送入该膜形成装置内之基材放置于一可移动并设有数个支持杆件之平台上;将放置有该基材于其上之该平台,由一该基材被该平台接收时之基材接收位置角位移至一膜形成位置,在该膜形成位置上,该平台之一基材支承面为垂直或实质上垂直,且在该位置时该基材之一末端表面系由位于其下之支持杆件所支持;在膜形过程后,将该平台由该膜形成位置角位移回该基材接收位置;在该平台已返回该膜放置位置后移动该等支持杆件;及在该等支持杆件移动后,将欲以一膜涂敷之该基材由该膜形成装置之该平台送出。10.如申请专利范围第9项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的方法,其中在该移动该等支持杆件之该步骤中,该等支持杆件系以一平行于该平台上之三维空间方向之一方向移动,或在该平台上旋转地移动。11.如申请专利范围第9项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的方法,其中在移动该等支持杆件之该步骤中,该等支持杆件系以一朝向该轴杆件或远离该轴杆件之方向移动,以角位移该平台。12.如申请专利范围第9项所述之用以支持一欲以一膜涂敷之基材的方法,其中该基材系一玻璃基材或一半导体晶圆。图式简单说明:第一图显示本发明之一实施例的膜形成装置10之示意图;第二图显示形成装置10之支持机构20的透视图;第三图显示形成装置10之支持机构20的侧视图。 |
