发明名称 硬化性聚甲基倍半矽氧烷,其硬化方法及其硬化物
摘要 本发明系有关硬化性聚甲基倍半矽氧烷、其硬化物及彼等之制法。本发明之目的系提供做为单独薄膜使用时具充分柔软性、与膜状硬化物之膜厚度无关而不具会造成实用问题之裂缝,且具优良抗张强度等物性之聚甲基倍半矽氧烷硬化物、其原料硬化性聚甲基倍半矽氧烷以及其硬化方法。前述硬化性聚甲基倍半矽氧烷之聚苯乙烯对比分子量范围为380~2000,表为式:[CH3Si03/2]n[CH3Si(OH)O2/2]m(m,n为可达上述分子量之正数,0.034(Mx10^-3)≦m/(m+n)≦0.152/(Mxl0^-3)+0.10)。将其于50~350℃下加热硬化。此硬化物系具优良物理性、化学性之特性,且可用于做为各种材料之表面保护涂层及耐热性涂层使用。
申请公布号 TW457261 申请公布日期 2001.10.01
申请号 TW085109895 申请日期 1996.08.14
申请人 道康宁亚细亚股份有限公司 发明人 齐藤章人;伊藤真树
分类号 C08G77/04 主分类号 C08G77/04
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种硬化性聚甲基倍半矽氧烷,其聚苯乙烯为比较基准之数量平均分子量(M)系于380至2000范围间,表为式[CH3SiO3/2]n[CH3Si(OH)O2/2]m(m,n为可达上述分子量之正数,m/(m+n)之値系如第一图中之A区域;于横轴为1/(M10-3)、纵轴为m/(m+n)之第一图图中,此A区域系由表为下述式1-4之各直线所包围之区域,各直线亦包含在内,而且各直线之交点亦包含在内:(式1):m(m+n)=0.152/(M10-3)+0.10(式2):1/(M10-3)=1,000/2,000(式3):1/(M10-3)=1,000/380(式4):m/(m+n)=0.034(M10-3))。2.一种根据申请专利范围第1项之硬化性聚甲基倍半矽氧烷之硬化方法,其系于50℃至350℃之温度下、加热该硬化性聚甲基倍半矽氧烷。3.根据申请专利范围第2项之方法,其系将该硬化性聚甲基倍半矽氧烷溶解于至少一种选自苯、甲苯、二甲苯等芳族烃溶剂;二乙醚、四氢喃等醚类溶剂;丁醇、己醇等醇类溶剂;丙酮、甲基乙基酮、甲基具丁基酮等酮类溶剂;乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类溶剂;及氯仿、三氯乙烯、四氯化碳之卤化烃溶剂后,经模型、蒸发溶剂后,以前述方式加热。4.一种聚甲基倍半矽氧烷硬化物,其系可于50℃至350℃之温度下、加热硬化根据申请专利范围第1项之硬化性聚甲基倍半矽氧烷而制得者。5.一种硬化性聚甲基倍半矽氧烷之制造方法,其系用于制造申请专利范围第1项之硬化性聚甲基倍半矽氧烷者,该硬化性聚甲基倍半矽氧烷之聚苯乙烯对比数量平均分子量(M)系于380至2000范围间,表为式[CH3SiO3/2]n[CH3Si(OH)O2/2]m(m,n为可达上述分子量之正数,m/(m+n)之値系如第一图中之A区域;于横轴为1/(M10-3)、纵轴为m/(m+n)之第一图图中,此A区域系由表为下述式1-4之各直线所包围之区域,各直线亦包含在内,而且各直线之交点亦包含在内:(式1):m(m+n)=0.152/(M10-3)+0.10(式2):1/(M10-3)=1,000/2,000(式3):1/(M10-3)=1,000/380(式4):m/(m+n)=0.034(M10-3))。该制造方法包含:将(甲)选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂或(乙)包含选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂与具此溶剂50体积%以下之烃溶剂之混合溶剂,与水置入一反应器中,形成上述(甲)选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂或(乙)混合溶剂之相与水相之二相系统,搅拌该二相系统使其为保持二层之程度或成悬浮状态之程度,一面将表为式MeSiX3(Me为甲基、X为选自F、Cl、Br及I之卤素原子)之甲其三卤矽烷、或溶解于上述(甲)选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂或(乙)混合溶剂中之上述甲基三卤矽烷之溶液加入上述二相系统中,以在该二相系统中进行上述甲基三卤矽烷水解反应及缩合反应。6.根据申请专利范围第5项之硬化性聚甲基倍半矽氧烷之制造方法,其中上述水相中,相对上述甲基三氟矽烷1分子中之卤素原子1莫耳,溶有1.8克当量以下之水溶性无机硷或具有缓冲能之弱酸之盐。7.一种硬化性聚甲基倍半矽氧烷之制造方法,其系用于制造申请专利范围第1项之硬化性聚甲基倍半矽氧烷者,该硬化性聚甲基倍半矽氧烷之聚苯乙烯对比数量平均分子量(M)系于380至2000范围间,表为式[CH3SiO3/2]n[CH3Si(OH)O2/2]m(m,n为可达上述分子量之正数,m/(m+n)之値系如第一图中之A区域;于横轴为1/(M10-3)、纵轴为m/(m+n)之第一图图中,此A区域系由表为下述式1-4之各直线所包围之区域,各直线亦包含在内,而且各直线之交点亦包含在内:(式1):m(m+n)=0.152/(M10-3)+0.10(式2):1/(M10-3)=1,000/2,000(式3):1/(M10-3)=1,000/380(式4):m/(m+n)=0.034(M10-3));该制造方法包含:在将表为式MeSiX3(Me为甲基、X为选自F、Cl、Br及I之卤素原子)之甲基三卤矽烷溶解于(甲)选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂或(乙)包含选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂与具此溶剂50体积%以下之烃溶剂之混合溶剂中所获得的溶液,加于置有水的反应器中或与水同时加入反应器中,在上述水与上述(甲)选自酮系溶剂、醚系溶剂及酯系溶剂之一种以上含氧有机溶剂或(乙)混合溶剂之二相系统中进行上述甲基三卤矽烷之水解反应及缩合反应。图式简单说明:第一图系图示表为[CH3SiO3/2]n[CH3Si(OH)O2/2]m之本发明硬化性聚甲基倍半矽氧烷于前式中之m、n范围。
地址 日本
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