发明名称 步进机透镜像差测量图样及步进机透镜像差特性评估方法
摘要 一第一图样与一第二图样系连接成大体上为梳状以形成一连接图样。第一图样系包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析。第二图样之外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析。该连接图样系彼此相距一距离,其尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系。此图样系接着用步进机转移并形成于晶圆上。在所得之图样中,线与间距部份之外缘系为线性形状,且能用光学长度测量机台来测量以评估像差因素。此外,因为线与间距部份之前缘系回应于曝光情况改变与像差而在形状上有所改变,可达成具高敏感度之测量方法。
申请公布号 TW457549 申请公布日期 2001.10.01
申请号 TW089104577 申请日期 2000.03.14
申请人 冲电气工业股份有限公司 发明人 渡边 明;奈良 明彦
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一大体上方型第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及至少两个连接图样,各系由将该第一图样与该第二图样连接成大体上为梳状,其中:该连接图样系彼此相距一距离,其尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系。2.如申请专利范围第1项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。3.如申请专利范围第1项所述之用在步进机镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。4.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一大体上方型第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及至少两个连接图样,各系由将该第一图样与该第二图样连接成大体上为梳状;一连接图样对,由将该连接图样彼此相距一距离放置而成,其尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系;以及一连接图样组,将一个或多个连接图样对合并而成。5.如申请专利范围第4项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。6.如申请专利范围第4项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。7.如申请专利范围第4项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:最少一个连接图样组之最外围尺寸系设定成该最外围尺寸系处于该光学长度测量机台之测量领域内。8.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一大体上方型第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及至少两个连接图样,各系由将该第一图样与该第二图样连接成大体上为梳状;一连接图样对,由将该连接图样彼此相距一距离放置而成,其尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系;一连接图样组,将一个或多个连接图样对合并而成;一第三图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系平行至该连接图样组内之各第二图样之内侧;以及一图样组,系由将该第三图样放置于由该连接图样组中之该第二图样所围绕而成之空间内,该第三图样距离该第二图样之一距离系在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第三图样之侧边系平行延伸于该第二图样之内侧。9.如申请专利范围第8项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。10.如申请专利范围第8项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。11.如申请专利范围第8项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该图样组之最外围尺寸系设定成该最外围尺寸系处于该光学长度测量机台之测量领域内。12.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一大体上方型第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及至少两个连接图样,各系由将该第一图样与该第二图样连接成大体上为梳状;一连接图样对,由将该连接图样彼此相距一距离放置而成,其尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系;以及一连接图样组,将一个或多个连接图样对合并而成,其中:复数个该连接图样组系设成以一相等角度旋转。13.如申请专利范围第12项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。14.如申请专利范围第12项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。15.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一大体上方型第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及至少两个连接图样,各系由将该第一图样与该第二图样连接成大体上为梳状;一连接图样对,由将该连接图样彼此相距一距离放置而成,其尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系;一连接图样组,将一个或多个连接图样对合并而成;一第三图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系平行至该连接图样组内之各第二图样之内侧;以及一图样组,系由将该第三图、样放置于由该连接图样组中之该第二图样所围绕而成之空间内,该第三图样距离该第二图样之一距离系在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第三图样之侧边系平行延伸于该第二图样之内侧,其中:复数个该连接图样组系设成以一相等角度旋转。16.如申请专利范围第15项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。17.如申请专利范围第15项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步造机之解析极限。18.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系彼此相对并彼此平行延伸;一约方型第四图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及一图样组,其由将该第一图样以彼此相对方式连接至该第二图样之至少两个侧边,且在沿着该第一图样之线部份之长度方向上,将该第四图样放置于离各第一图样之前缘一距离,该距离为在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析。19.如申请专利范围第18项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。20.如申请专利范围第18项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。21.如申请专利范围第18项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该图样组之最外围尺寸系设定成该最外围尺寸系处于该光学长度测量机台之测量领域内。22.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系彼此相对并彼此平行延伸;一约方型第四图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;一线与间距型第五图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析;以及一图样组,其由将该第一图样以彼此相对方式连接至该第二图样之至少两个侧边,且在沿着该第一图样之线长度方向上,将该第四图样放置于离各第一图样之前缘一距离,该距离为在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,并将该第五图样连接于该第四图样之外侧。23.如申请专利范围第22项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。24.如申请专利范围第22项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。25.如申请专利范围第22项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该图样组之最外围尺寸系设定成该最外围尺寸系处于该光学长度测量机台之测量领域内。26.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系彼此相对并彼此平行延伸;一约方型第四图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及一图样组,其由将该第一图样以彼此相对方式连接至该第二图样之至少两个侧边,且在沿着该第一图样之线长度方向上,将该第四图样放置于离各第一图样之前缘一距离,该距离为在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,其中:复数个该连接图样组系设成以一相等角度旋转。27.如申请专利范围第26项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。28.如申请专利范围第26项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。29.一种用在步进机透镜像差特性评估之图样,包括:一线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析;一第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系彼此相对并彼此平行延伸;一约方型第四图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析;以及,一线与间距型第五图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析;以及一图样组,其由将该第一图样以彼此相对方式连接至该第二图样之至少两个侧边,且在沿着该第一图样之线长度方向上,将该第四图样放置于离各第一图样之前缘一距离,该距离为在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,并将该第五图样连接于该第四图样之外侧,其中:复数个该连接图样组系设成以一相等角度旋转。30.如申请专利范围第29项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样系各形成于楔形,其底部沿着较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析。31.如申请专利范围第29项所述之用在步进机透镜像差特性评估之图样,其中:该线图样沿着该较短侧之宽度系相等或小于该步进机之解析极限。32.一种步进机透镜像差特性评估方法,包括:利用一步进机将一像差特性评估图样转移至一评估基底上之步骤,其中该像差特性评估图样系包括一图样组,该图样组系由将至少两个连接图样以彼此相距一距离设定而得,该距离系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内允许分离/解析,各连接图样系由将一线与间距型第一图样与一第二图样连接成大体上为梳状,该第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析,该一大体上方型第二图样,其外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第一图样之线部份系朝外延伸,且彼此为一对称位置关系;利用该光学长度测量机台测量,在转移至该评估基底上之一个连接图样中之沿该长度方上之该第一图样之前缘与相对于该第一图样上之该第二样之边缘间之间距之步骤;利用该光学长度测量机台测量,位置对称于该个连接图样之另一连接图样中之沿该长度向上之该第一图样之前缘与相对于该第一图样上之该第二图样之边缘间之间距之步骤;以及比较该光学长度测量机台所得之该测量値并计算其差异之步骤。33.如申请专利范围第32项所述之步进机透镜像差特性评估方法,其中:该连接图样组更包括一第三图样,其放置于由该连接图样组中之该第二图样所围绕而成之空间内,该第三图样距离该第二图样之一距离系在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该第三图样之侧边系平行延伸于该第二图样之内侧。34.一种步进机透镜像差特性评估方法,包括:利用一步进机将一像差特性评估图样转移至一评估基底上之步骤,其中该像差特性评估图样系包括一图样组,该图样组系将复数个线与间距型第一图样连接至一第二图样之至少两相对侧边,各线与间距型第一图样,包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在一光学长度测量机台之一测量领域内不允许分离/解析,该第二图样之外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,且其侧边系彼此相对并彼此平行延伸,且在沿着该第一图样之线长度方向上,将一方型第四图样放置于离各第一图样之前缘一距离,该距离为在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析,该方型第四图样之外围尺寸系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内允许分离/解析之步骤;以及利用该光学长度测量机台测量,在转移至该评估基底上之该连接图样中之沿该长度方向上之两侧上之各第一图样之前缘间之间距之步骤。35.如申请专利范围第34项所述之步进机透镜像差特性评估方法,其中:该图样组更包括一线与间距型第五图样,其包括复数个线图样,各线图样沿其较短侧之宽度系设定成在该光学长度测量机台之该测量领域内不允许分离/解析,该第五图样连接于各第四图样之外侧;以及测量沿长度方向上之该第五图样之前缘与该第五图样上之相对侧上之该第四图样之边缘间之间距以及完成评估之步骤。图式简单说明:第一图(a)绘示本发明第一实施例中之图样架构;第一图(b)绘示利用步进机将第一图(a)之图壁架构转移与形成到晶圆上之光阻而得之图样架构;第一图(c)绘示第一图(b)之图样架构之剖面图;第二图(a)绘示将第一图(a)之图样架构顺时钟方向旋转90度之本发明第二实施例中之图样架构;第二图(b)绘示将第一图(a)之图样架构顺时钟方向旋转45度之本发明第二实施例中之图样架构;第二图(c)绘示第一图(a)之图样架构逆时钟方向旋转45度之本发明第二实施例中之图样架构;第三图绘示图样架构设定在透镜曝光范围内之位置;第四图(a)绘示本发明第三实施例中之图样架构;第四图(b)绘示利用步进机将第四图(a)之图样架构转移与形成到晶圆上之光阻而得之图样架构;第五图(a)绘示本发明第四实施例中之图样架构;第五图(b)绘示利用步进机将第五图(a)之图样架构转移与形成到晶圆上而得之图样架构;第六图绘示本发明第五实施例中之图样架构;第七图(a)绘示本发明第六实施例中之图样架构;第七图(b)绘示利用步进机将第七图(a)之图样架构转移至晶圆上而得之图样架构;第七图(c)绘示第七图(b)之图样架构之剖面图;第八图(a)绘示将第七图(a)之图样架构逆时钟方向旋转90度之本发明第七实施例中之图样架构;第八图(b)绘示将第七图(a)之图样架构逆时钟方向旋转45度之本发明第七实施例中之图样架构;第八图(c)绘示将第七图(a)之图样架构顺时钟方向旋转45度之本发明第七实施例中之图样架构;第九图绘示本发明第八实施例中之图样架构;第十图绘示本发明第九实施例中之图样架构;第十一图绘示本发明第十实施例中之图样架构;第十二图(a)绘示本发明第十一实施例中之图样架构;第十二图(b)绘示将第十二图(a)之图样架构旋转90度之图样架构;第十二图(c)绘示利用步进机将第十二图(a)之图样架构转移与形成到晶圆上而得之图样架构;第十二图(d)绘示系由第十二图(a)或第十二图(b)之图样架构所形成之图样之剖面图;第十三图(a)绘示将第十二图(a)逆时钟方向旋转45度之本发明第十二实施例中之图样架构;第十三图(b)绘示将第十二图(a)顺时钟方向旋转45度之本发明第十二实施例中之图样架构;第十四图绘示本发明第十三实施例中之图样架构;第十五图绘示本发明第十四实施例中之图样架构;第十六图绘示本发明第十五实施例中之图样架构;第十七图绘示本发明第十六实施例中之图样架构;第十八图(a)绘示连接方形图样与线与间距图样所得之本发明第十七实施例中之图样架构;第十八图(b)绘示将第十八图(a)中之线与间距图样用等腰三角形之重覆图样取代所得之本发明第十七实施例中之图样架构;第十九图(a)绘示当第四图(a)中之图样架构系以焦距位置在曝光时改变而形成其图样,将模糊像差与像散出现划出而得之图形;第十九图(b)绘示第十九图(a)之各别曝光位置;第二十图(a)绘示线与间距图样之习知技术中之图样架样;第二十图(b)绘示将第二十图(a)之线与间距图样顺时钟方向旋转90度之图样架构;第二十图(c)绘示将第二十图(a)之线与间距图样顺时钟方向旋转45度之图样架构;第二十图(d)绘示将第二十图(a)之线与间距图样逆时钟方向旋转45度之图样架构;第二十一图绘示习知技术中,在透镜曝光范围内之图样架构之位置;第二十二图(a)绘示系由第二十图(a)之图样架构所形成之图样之剖面图;以及第二十二图(b)绘示系由第二十图(a)之图样架构之已形成之线条图样之一之剖面图。
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