| 主权项 |
1.一种显像处理装置,其系将显像液涂布于露光处 理后之基板以进行显像处理者,包含有: 显像液供给喷嘴,系将显像液供给基板,以用来进 行显像处理; 冲洗液喷射喷嘴,系于基板之显像处理后,向基板 喷射冲洗液;及 冲洗液膜形成机构,系藉该冲洗液喷射喷嘴来喷射 冲洗液时,在基板上形成冲洗液膜。2.如申请专利 范围第1项所述之显像处理装置,其中前述冲洗液 膜形成机构,备有一覆盖,其系包围前述冲洗液喷 射喷嘴之侧方同时被配置成与基板之间留出给定 间隙,以便一面暂时储存该喷射自冲洗液喷射喷嘴 之冲洗液一面在基板上形成冲洗液膜。3.如申请 专利范围第2项所述之显像处理装置,其中前述盖 与基板之给定间隙,系被设定成基板上可形成冲洗 液膜同时,可将冲洗液之压力维持于给定値以上。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项所述之显像处 理装置,其中前述冲洗液喷射喷嘴,系一面横穿静 止之基板上移动,一面喷射冲洗液。5.如申请专利 范围第1至3项中任一项所述之显像处理装置,更包 含有冲洗液吐出喷嘴,其系藉前述冲洗液喷射喷嘴 来喷射冲洗液之后,以给定压力以下向基板吐出冲 洗液。6.如申请专利范围第1项所述之显像处理装 置,备有:用来包围基板之圆筒形状内杯;及用来包 围该内杯外周围之圆筒形状外杯。7.如申请专利 范围第6项所述之显像处理装置,备有显像液供给 喷嘴,其系备有:设在前述外杯上侧之显像液用喷 嘴臂;及设在此显像用喷嘴臂下侧以用来吐出显像 液之多数个吐出口。8.如申请专利范围第6或7项所 述之显像处理装置,其中前述内杯及外杯,系构成 为可一体地升降,且备有一为了防止显像液或冲洗 液向外部飞散而朝内倾斜之上端部。9.如申请专 利范围第1项所述之显像处理装置,其中前述冲洗 液喷射喷嘴,系以喷射冲洗液之状态,扫描静止之 基板上。10.如申请专利范围第1项所述之显像处理 装置,其中前述冲洗液喷射喷嘴,备有:沿基板(G)之 宽度方向延伸之喷嘴头;及设在喷嘴头下侧之多数 个喷射部。11.如申请专利范围第1项所述之显像处 理装置,其中前述冲洗液喷射喷嘴,具有一将前述 冲洗液膜冒泡之冒泡手段。12.如申请专利范围第 11项所述之显像处理装置,其中前述冒泡手段,系由 一将氮气体喷出于前述冲洗液膜之手段所构成。 13.一种显像处理装置,其系将显像液涂布于露光处 理后之基板以进行显像处理之装置者,包含有: 显像液供给喷嘴,系将显像液供给基板,以便在基 板进行显像处理; 内杯,系于涂布此显像液时,包围基板之周围; 显像液用托盘,系于涂布显像液时,用来储存排 出透过该内杯内侧流向下方之显像液; 冲洗液吐出喷嘴,系在基板之显像处理后,向基板 吐出冲洗液; 外杯,系于吐出该冲洗液时,在前述内杯之外方包 围基板之周围;及 冲洗液用托盘,系于吐出冲洗液时,用来储存排 出透过前述内杯外侧与外杯内侧间流向下方之冲 洗液。14.如申请专利范围第13项所述之显像处理 装置,其中 前述显像液用托盘,系配置成覆盖前述内杯之底部 ,且形成倾斜以便收集显像液; 前述显像液用托盘,系配置成覆盖前述外杯之底部 ,且形成倾斜以便收集冲洗液。15.一种显像处理方 法,包含有: 显像步骤--将基板显像; 旋转步骤--一面喷洒冲洗液一面以第一速度旋转 基板(G); 减速步骤--先使旋转速度一旦上升成比第一速度 还快之第二速度,然后,减速成第三速度; 扫描步骤--于前述第三速度,以高压冲洗液扫描前 述基板; 除去步骤--加速至比前述第一乃至第三速度还快 之第四速度,于此第四速度进行一般之冲洗,以除 去由高压冲洗所产生之水泡;及 乾燥步骤以比第四速度还快之第五速度来旋转前 述基板,俾使基板乾燥。图式简单说明: 第一图为一平面图,系显示本发明所适用之LCD(彩 色液晶显示器的滤色器(colorfilter)之涂布现像处 理系统。 第二图为一平面图,系显像本发明实施形态之显像 处理单元(DEV)。 第三图为一断面图,系显示本实施形态之显像处理 单元(DEV)。 第四图为一断面图,系显示安装在第二图、第三图 中所示之显像处理单元(DEV)的冲洗液喷嘴。 第五图为部分地切开之斜视图,系显示安装置在第 二图、第三图所示之显像处理单元(DEV)之冲洗液 喷嘴。 第六图为一图表图,系显示用来评估残留物之透射 系与波长之关系。 第七图系显示高压冲洗设定条件。 第八图系使用氮冒泡法之冲洗液喷射喷嘴的断面 图。 第九图系第八图之冲洗液喷射喷嘴之概略斜视图 。 第十图系显示冲洗时之基板旋转速度的状态。 |
