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发明名称
Photoresistzusammensetzung
摘要
申请公布号
DE69706214(D1)
申请公布日期
2001.09.27
申请号
DE19976006214
申请日期
1997.04.01
申请人
MITSUBISHI CHEMICAL CORP., TOKIO/TOKYO
发明人
NISHI, MINEO;NAKANO, KOJI;KUSUMOTO, TADASHI;KAWASE, YASUHIRO
分类号
G03F7/022;(IPC1-7):G03F7/022
主分类号
G03F7/022
代理机构
代理人
主权项
地址
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