| 发明名称 |
Positiv arbeitende Resistzusammensetzung |
| 摘要 |
Eine positiv arbeitende Resistzusammensetzung, die verbessertes Profil ohne Verschlechterung anderer Eigenschaften, wie Empfindlichkeit und Auflösung, ergibt und ein alkalilösliches Novolakharz, ein strahlungsempfindliches Mittel des Chinondiazidtyps und N-(n-Octylsulfonyloxy)succinimid umfasst.
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| 申请公布号 |
DE10112261(A1) |
申请公布日期 |
2001.09.27 |
| 申请号 |
DE20011012261 |
申请日期 |
2001.03.14 |
| 申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
UETANI, YASUNORI;TOMIOKA, JUN;LEE, SANG-HO |
| 分类号 |
C08K5/28;C08K5/41;C08L61/10;G03F7/004;G03F7/022;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
C08K5/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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