| 发明名称 | 双轴取向聚酯薄膜、其制造方法和磁记录媒体 | ||
| 摘要 | 提供一种磁道偏移小、运行耐久性和保存稳定性优良的、适用于作为高密度磁记录媒体用带基薄膜的双轴取向聚酯薄膜及其制造方法。本发明的目的是通过在49℃、90%RH的条件下,在纵向施加32MPa荷重的状态下放置72小时时的横向尺寸变化率(A)在－0.3～0%的范围内来达成的。 | ||
| 申请公布号 | CN1314839A | 申请公布日期 | 2001.09.26 |
| 申请号 | CN00801146.X | 申请日期 | 2000.04.18 |
| 申请人 | 东丽株式会社 | 发明人 | 杉井光;琴浦正晃;细川博文;恒川哲也 |
| 分类号 | B29C55/12;C08J5/18;G11B5/73;//B29K67:00,B29L7:00 | 主分类号 | B29C55/12 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 魏金玺;钟守期 |
| 主权项 | 1．一种双轴取向聚酯薄膜，它在49℃、90％RH的条件下，在纵向施加32 MPa荷重的状态下放置72小时时的横向尺寸变化率(A)在-0.3～0％的范围内。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||