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发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR THERMAL PROCESSING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
摘要
申请公布号 EP1135659(A1) 申请公布日期 2001.09.26
申请号 EP19990956983 申请日期 1999.11.12
申请人 MATTSON TECHNOLOGY INC. 发明人 JOHNSGARD, KRISTIAN E.;DAVIET, JEAN-FRANCOIS;GIVENS, JAMES A.;SAVAS, STEPHEN E.;MATTSON, BRAD, S.;ATANOS, ASHUR, J.
分类号 H05B3/00;C30B31/12;F27B5/14;F27D7/02;F27D11/02;F27D19/00;F27D21/00;H01L21/00;H01L21/324;H05B3/10;H05B3/14;H05B3/68;(IPC1-7):F27B5/14 主分类号 H05B3/00
代理机构 代理人
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