| 发明名称 | 混合抛光膏剂 | ||
| 摘要 | 抛光基底表面的混合膏剂混合物。所述混合膏剂包括:1－30%(重量)的主要抛光颗粒、1－50%(重量)分散胶体颗粒、1－40%(重量)的氧化剂和平衡水。所述主要抛光颗粒为至少一种选自氧化物、氮化物、碳化物和硼化物的金属化合物。所述主要抛光颗粒的粒径为约0.1－2μm平均直径。所述分散胶体颗粒为至少一种选自氧化铝和二氧化硅的氧化物。所述分散胶体颗粒的粒径为约2－500nm平均直径。 | ||
| 申请公布号 | CN1314444A | 申请公布日期 | 2001.09.26 |
| 申请号 | CN01111755.9 | 申请日期 | 2001.03.19 |
| 申请人 | 普拉塞尔.S.T.技术有限公司 | 发明人 | D·夸克;J·K·克纳普 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 钟守期 |
| 主权项 | 1．一种用于抛光表面的混合膏剂混合物，包括约1-30％(重量)主要抛光颗粒，所述主要抛光颗粒为至少一种选自氧化物、氮化物、碳化物和硼化物的金属化合物，且所述主要抛光颗粒的粒径为约0.1-2μm平均直径；约1-50％(重量)分散胶体颗粒，其为至少一种选自氧化铝和二氧化硅的氧化物，所述分散胶体颗粒的粒径为约2-500nm平均直径；约1-40％(重量)的氧化剂和平衡水。 | ||
| 地址 | 美国康涅狄格州 | ||