发明名称 Photosensitive polymer having cyclic backbone and resist composition comprising the same
摘要 <p>백본(backbone)이 환상(環狀) 구조를 가지면서 지환식(脂環式) 화합물을 함유하는 감광성 폴리머와, 이로부터 얻어지는 레지스트 조성물에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 감광성 폴리머는 다음 식을 가지고, 중량 평균 분자량이 3,000 ∼ 100,000이다. 식중, R은 터트-부틸기, 테트라히드로피라닐기, 1-알콕시에틸기, 또는 1-알콕시메틸기이고, R는 수소 원자, 시아노기(-CN), 히드록시기, 히드록시메틸기, 카르본산기, 2-히드록시에틸옥시카르보닐기, 터트-부톡시카르보닐기, 또는 지환식 화합물이고, R는 수소 원자 또는 메틸기이고, R는 수소 원자, 2-히드록시에틸기, 터트-부틸기, 이소보르닐기, 아다만틸기, 노르보르닐기, 또는 멘틸기이고, l/(l+m+n+p) = 0.1∼0.5이고, m/(l+m+n+p) = 0.3∼0.5이고, n/(l+m+n+p) = 0.0∼0.3이고, p/(l+m+n+p) = 0.0∼0.3이다.</p>
申请公布号 KR100301065(B1) 申请公布日期 2001.09.22
申请号 KR19990033648 申请日期 1999.08.16
申请人 null, null 发明人 최상준;정동원
分类号 C08F34/02;C08F220/06;C08F220/12;C08F220/28;C08F222/06;C08F232/00;C08F232/04;C08K5/03;C08K5/17;C08K5/36;C08K5/42;C08L33/02;C08L33/14;C08L35/00;C08L45/00;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F34/02
代理机构 代理人
主权项
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