电浆处理装置

摘要

本发明系关于天线分割型之高频感应电浆产生装置，可防止高频天线之振荡(hunting)，改善蚀刻之选择性或蚀刻形状之控制。在天线分割型之高频感应型电浆处理装置(100)，于处理室(102)之电介体(108)上部配置高频天线(112)。该天线系由第l高频天线(112a)，与分开间隔配置之第2高频天线(112b)，所构成。被处理体W载置在配置于处理室内之下部电极(106)上。第l、第2高频天线及/或下部电极分别施加有控制相位之高频电力。此等高频电力可以采用连续波之高频电力，或高频电力脉冲列。

主权项

1.一种电浆处理装置,具备有:电浆处理室;第1高频天线,系配置在该电浆处理室之外周部;第2高频天线,系在该电浆处理室之外周部而与该第1高频天线分开一定间隔配置;相位检测电路,系用以检出分别供给前述第1高频天线及前述第2高频天线之高频电力间之相位;产生电浆用之高频电源单体,系用以向该第1高频天线及第2高频天线供产生电浆用之高频电力,具有可以控制分别向该第1高频天线及该第2高频天线供应之两高频电力间之相位的相位控制构件;下部电极,系设置在该处理室内,用以载置被处理体;及偏压用之高频电源单体,系用以向该下部电极供应偏压用之高频电力,且具有相位控制机构,而该相位控制机构之设置系用以延迟偏压高频电力之相位而对各别供给前述第1高频天线及前述第2高频天线之高频电力之相位,控制该偏压用高频电力的相位。2如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,该产生电浆用之高频电源单体之该相位控制构件系用以控制供给该第1高频天线及该第2高频天线之产生电浆用之高频电力使其相位成为同一相位之相位控制构件。3.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,该产生电浆用之高频电源单体,系用以形成供给该第1高频天线及该第2高频天线之产生电浆用高频电力之连续波之高频电力之单体,备有,能够控制分别供给第1高频天线及第2高频天线之两高频电力间之相位之相位控制构件之该产生电浆用之高频电源单体。4.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,该产生电浆用之高频电源单体,系用以形成供给该第1高频天线及该第2高频天线之产生电浆用之高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制分别供给第1高频天线及第2高频天线之各高频电力脉冲列之相位之相位控制构件之该产生电浆用之高频电源单体。5.一种电浆处理装置,具备有:电浆处理室;第1高频天线,系配置在该电浆处理室之外周部;第2高频天线,系在该电浆处理室之外周部,与第1高频天线分开一定距离配置;相位检测电路,系用以分别供给前述第1高频天线及前述第2高频天线之高频电图间之相位;产生电浆用之高频电源单体,系用以向该第1高频天线及第2高频天线供应产生电浆用高频电力;下部电极,系设置在该处理室内,用以载置被处理体;及偏压用之高频电源单体,系用以向该下部电极供应偏压用之高频电力,且具有相位控制构件,而该相位控制构件系用以对各别供述第1高频天线及前述第2高频天线之高频电力之相位,延迟偏压高频电力之相位而控制供给前述下部电极之偏压用高频电力的相位。6.如申请专利范围第5项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系用以向该下部电极供应与供给该第1高频天线及该第2高频天线之产生电浆用之高频电力电一频率之高频电力之偏压用高频电源单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电力之相位之相位控制构件之该偏压用之高频电源单体。7.如申请专利范围第5项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体之该相位控制构件用以控制相位,俾减轻供给该1高频天线与该第2高频天线之产生电浆用之高频电力,与偏压用之高频电力间之振荡之相位控制构件。8.如申请专利范围第5项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系形成供应该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件之该偏压用之高频电源单体。9.如申请专利范围第8项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系形成供应该下部电极之偏压用之高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电浆力脉冲列之相位之相位控制构件,及控制ON/OFF之负载比(duty ratio)之构件之该偏压用之高频电源单体。10.一种电浆处理装置,具备有:电浆处理室;第1高频天线,系配置在该电浆处理室之外周部;第2高频天线,系在该电浆处理室之外周部,与该第1高频天线分开一定间隔配置;相位检测电路,系用以分别供给前述第1高频天线及前述第2高频天线之高频电力间之相位;产生电浆用之高频电单体,系用以向该第1高频天线及第2高频天线供应产生电浆用之高频电力,且具有相位控制构件,而该相位控制构件能够控制分别供给第1高频天线及第2高频天线之两高频电力间的相位;下部电极,系设置在该处理室内,用以载置被处理体;及,偏压用之高频电源单体,系向该下部电极供应偏压用之高频电力之偏压用高频电单体,具有相位控制构件,而该相位控制构件系用以对各别供给前述第1高频天线及前述第2高频天线之高频电力之相位,延迟偏压高频电力之相位而控制供给前述下部电极之偏压用高频电力的相位。11.如申请专利范围第10项所述之电浆处理装置,该产生电浆用之高频电源单体之该相位控制构件,系用以控制供给第1高频天线及第2高频天线之产生电浆用之高频电力使其相位成为同一相位之相位控制构件。12.如申请专利范围第10项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频单体之该相痊控制构件,系用以控制供给该第1高频天线及该第2高频天线之产生电浆用之高频电力,与偏压用之高频电力间之相位使其成为同一相位之相位控制构件。13.如申请专利范围第10项所述之电浆处理装置,该产生电浆用之高频电源单体,系用以形成供给该第1高频天线与该第2高频天线之产生电浆用高频电力之连续波之高频电力之单体,备有,能够控制分别供给该第1高频天线及该第2高频天线之两高频电力间之相位之相位控制构件之该产生用之高频电源单体;该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件之该偏压用之高频电源单体。14.如申请专利范围第13项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件,及控制ON/OFF之负载比之构件之该偏压用之高频电源单体。15.如申请专利范围第10项所述之电浆处理装置,该产生电浆用之高频电源单体,系用以形成供给该第1高频天线及该第2高频天线之产生电浆用高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制分别供给第1高频天线及第2高频天线之两高频电力间之相位之相位控制构件之该产生电浆用之高频电源单体,该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件之该偏压用之高频电源单体。16.如申请专利范围第15项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲之相位之相位控制构件,及控制ON/OFF之负载比之构件之该偏压用之高频电源单体。17.如申请专利范围第15项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉我之单体,该单体备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件,该相位控制构件系使该偏压用之高频电力脉冲列较电浆产生用之高频电力脉冲列有一定之延迟之构件。18.如申请专利范围第15项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,该单体备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件,该相位控制构件系使该偏压用之高频电力脉冲列较电浆产生用之高频电力脉冲列有一定之延迟构件,该单体进一步可以进行控制,在脉冲电浆之余辉(after glow)期间,降低该偏压用之高频电力脉冲之电力値。19.如申请专利范围第15项所述之电浆处理装置,该偏压用之高频电源单体,系用以形成供给该下部电极之偏压用高频电力之高频电力脉冲列之单体,该单体备有,能够控制供给下部电极之高频电力脉冲列之相位之相位控制构件,该单体进一步系用以形成,该偏压用之高频电力脉冲例之脉冲宽度较产生电浆用之高频电力脉冲列之脉冲宽度为宽,且在电浆之余辉期间降低电力値之波形之高频电力脉冲列之单体。图式简单说明:第一图系表示,将本发明应用在电浆处理时之电浆处理装置之概略架构之截面图。第二图系表示,将本发明应用在电浆处理时之电浆处理装置之示意图。第三图A、第三图B系将本发明应用在电浆处理时之以脉冲控制处理装置时之定时图。