| 主权项 |
1.一种可见雷射光熟化之组成物,包含:(A)一种具有光敏感性基之光熟化树脂,在曝光时可被交联或聚合,其中包含于光熟化树脂(A)中之光敏感基为(甲基)丙烯醯基、肉桂醯基、烯丙基、叠氮基或亚桂皮基,光熟化树脂(A)具有1,000至100,000之数量平均分子量和-20℃或其以上之玻璃转移温度,(B)一种由如下式所代表之敏化剂:其所含有之敏化剂(B)之用量为每100重量份(以固体含量计)之光熟化树脂(A)使用0.1至10重量份,及(C)一种由如下式所代表之二茂钛化合物:,其所含二茂钛(C)之用量为每100重量份(以固含量计)之光熟化树脂(A)使用0.1至10重量份。2.如申请专利范围第1项之组成物,另含:(D)至少一种含氮化合物,选自由下列通式(1)至(6)所代表含基化合物;(其中X为氢原子或羟基;R21,R22,及R23各自独立而为氢原子、氯原子或有1至6个碳原子之烷基),(其中R24和R25各自独立而为氢原子或有1至6个碳原子之烷基),(其中R26,R27,和R28各自独立而为氢原子、羟基或具1至12个碳原子之烷基),(其中R29,R30和R31各自独立而为氢原子、羟基、具1至12个碳原子之烷基或具1至12个碳原子之烷氧基),(其中R32为氢原子,羟基,具1至12个碳原子之烷基或具1至12碳原子之烷氧基),及(其中R33和R34各自独立而为氢原子或具1至12个碳原子之烷基;且n为1至3之整数)。3.如申请专利范围第2项之组成物,其中之含氮化合物(D)为选自如通式(1)之苯并三唑。4.如申请专利范围第2项之组成物,其中所含含氮化合物之量为每100重量份(固体含量)之光熟化树脂(A)用200重量份或较少。5.一种形成一影像之方法,其为包含于一基质上涂覆一种如申请专利范围第1项之可见雷射光熟化之组成物,将像施用可见雷射光以造成可见雷射光熟化之膜,并进行显像。 |
