发明名称 | 包括经双环烷氧基取代的青素之光学记录媒体 | ||
摘要 | 本发明提出一种青素染料,其具有双环烷氧基取代基以改良其在常用的有机溶剂中之溶解度。本发明更提出一种光学记录媒体其中系使用有双环烷氧基取代基的青染料作为光学记录材料。 | ||
申请公布号 | TW455853 | 申请公布日期 | 2001.09.21 |
申请号 | TW088118100 | 申请日期 | 1999.10.20 |
申请人 | 铼德科技股份有限公司 | 发明人 | 王式禹;锺仁华;叶垂景 |
分类号 | G11B7/00 | 主分类号 | G11B7/00 |
代理机构 | 代理人 | 樊贞松 台北巿仁爱路四段三七六号十三楼之一;王云平 台北巿仁爱路四段三七六号十三楼之一 | |
主权项 | 1.一种光学记录媒体,其包括聚合物基材,记录层,反射层和保护层;其中该记录层包括一或一种以上的式(I)所表青染料(I)其中M为Pb,Pd,Ni,Cu,Zn,Co,Mg,Fe,VO或TiO;X为Cl,Br或I;n为0或1至4的整数;k为1至4之任何数;R1为衍生自含羟基的双环烷基化合物之烷氧基取代基;该含羟基的双环烷基化合物可用式(II)和(III)表之:其中,X,Y和Z彼此独立地为氢原子,卤素,甲基或乙基;R3,R4,R5,R6,R7和R8彼此独立地为C1-4线型或分枝型烷基其含或不含卤素取代基;R2为有或无取代基的C1-20线型烷基,有或无取代基的C1-20分枝型烷基,有或无取代基的C1-20线型烷氧基,有或无取代基的C1-20分枝烷氧基,和有或无取代基的芳氧基。2.根据申请专利范围第1项之光学记录媒体,其中该取代基为卤素,OR9,SO2R10,OCOR12,NR13R14,其中R9,R10,R11,R12,R13和R14皆为C1-12线型或分枝型烷基。 | ||
地址 | 新竹县湖口乡中兴村光复北路四十二号 |