发明名称 半导体元件以及半导体元件之安装结构
摘要 一种安装结构被提供用以使具有电极之半导体元件安装于具有导电垫之安装基材上。金属块使半导体元件之电极电连接至导电垫。第一共熔焊料被用于金属块与半导体元件电极间之焊接。第二共熔焊料被用于金属块与基材导电垫间之焊接。金属块之熔点系高于共熔焊料之熔点,且对第一共熔焊料之疲劳之抗性系高于第二共熔焊料者。第一最低熔焊系由63质量%之Sn组份、34.3质量%之Pb组份、 l质量%之In组份、0.7质量%之Sb组份及l质量%之Ag组份组成。
申请公布号 TW455960 申请公布日期 2001.09.21
申请号 TW089105276 申请日期 2000.03.22
申请人 新光电气工业股份有限公司 发明人 今井一成;渡边章司
分类号 H01L21/60;H01L21/31 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种用以使具有电极之半导体元件安装于具有 导体垫之安装基材上之安装结构,该结构包含: 金属块,其使该半导体元件之该电极电连接至该导 体垫; 第一共熔焊料,其用于该金属块与该半导体元件之 该电极间之焊接; 第二共熔焊料,其用于该金属块与该基材之该导体 垫间之焊接; 该金属块之熔点系高于该第一及第二共熔焊料之 熔点,且该第一共熔焊料之疲劳抗性系高于该第二 共熔焊料之疲劳抗性。2.如申请专利范围第1项之 安装结构,其中该第一共熔焊料主要系由Sn组份及 Pb组份组成,且亦由In组份、Sb组份、Ag组份及Cu组 份之至少二者组成。3.如申请专利范围第1项之安 装结构,其中该金属块系高熔点焊料,Cu或Ni,其具有 高于该第一及第二共熔焊料者之熔点。4.一种用 于使具有电极之半导体元件安装于具有导体垫之 安装基材上之安装结构,该结构包含: 金属块,其使该半导体元件之该电极电连接至该导 体垫; 第一共熔焊料,其用于该金属块与该半导体元件之 该电极间之焊接; 第二共熔焊料,其用于该金属块与该基材之该导体 垫间之焊接; 该金属块之熔点系高于该第一及第二共熔焊料之 熔点,且该第二共熔焊料之疲劳抗性系高于该第一 共熔焊料之疲劳抗性。5.如申请专利范围第4项之 安装结构,其中该第二共熔焊料主要系由Sn组份及 Pb组份组成,且亦由In组份、Sb组份、Ag组份及Cu组 份之至少二者组成。6.如申请专利范围第4项之安 装结构,其中该金属块系高熔点焊料,Cu或Ni,其具有 高于该第一及第二共熔焊料者之熔点。7.一种半 导体元件,包含: 半导体构件,其具有形成电极之表面,于其上第一 电极端子及绝缘保护膜被形成; 线路图案,其系于该保护膜上形成,如此,被电连接 至该第一电极端子; 金属块,其被藉由第二电极端子电连接至该线路图 案; 共熔焊料,其用于该金属块与该第二电极端子间之 焊接,该共熔焊料具有高的抗疲劳性且系主要由Sn 组份与Pb组份所组成,且亦可为由In组份、Sb组份、 Ag组份以及Cu组份中之至少两者所组成;及 该金属块之熔点系高于该共熔焊料之熔点。8.一 种半导体元件,其包含: 半导体构件,其具有电极; 金属块,其系电连接至该电极; 共熔焊料,其用于该金属块与该电极间之焊接,该 共熔焊料具有高的抗疲劳性且系主要由Sn组份及Pb 组份组成,且其由In组份、Sb组份、Ag组份及Cu组成 组成;及 该金属块之熔点系高于该共熔焊料之熔点。9.如 申请专利范围第7或8项所述之半导体元件,其中该 共熔焊料系由63质量%之Sn组份、34.3质量%之Pb组份 、1质量%之In组份、0.7质量%之Sb组份及1质量%之Ag 组份所组成。图式简单说明: 第一图系用以解释依据本发明之半导体元件之安 装结构之一方面之例示; 第二图系用以解释依据本发明之晶片尺寸之半导 体元件之一方面及用以解释其中此半导体元件被 安装至印刷电路板之结构之例示; 第三图系用以解释依据本发明之晶片尺寸之半导 体元件及用以解释其半导体元件被安装至印刷电 路板之结构之另一方面之例示; 第四图系用以解释用于半导体元件之习知技艺安 装结构之例子之例示; 第五图系用以解释习知技艺半导体元件之例子之 例示; 第六图系用以解释习知技艺之半导体元件之另一 例子之例示; 第七图系图示与习知技艺有关之本发明功效之比 较实验资料;及 第八图系显示用于第七图实验之高温焊料球之截 面图。
地址 日本