| 摘要 |
本发明系有关一种经改良的聚笨并咪唑材料,其特征为以下述构造式(I)所示,CC (I)(其中，R1系表示于重覆单位中经氮原子对称取代的四价芳香环;R2系表示于重覆单位中选自具2~20个碳原子之脂肪基、脂环基或芳香基之二价基;于重覆单位中R3及R4可被此相同或不同,各单独选自氢原子、烷基、芳香基等,此等基亦可被其他基取代;X系表示于重覆单位中各别代表直接键结、-0-、-CO-O-等);或为以下述构造式(Ⅱ)所示,CC (II)(其中，R5系表示于重覆单位中具有氮原子的芳香环,该氮原子可与邻接之碳原子结合形成苯并咪唑环;R6系表示于重覆单位中氢原子、烷基、芳香基等,此等基亦可被其他基取代;X系于重覆单位中代表直接键结、-O-、-CO-O-等)，其金属(除硷金属与硷土金属以外)之总浓度低于10ppm。该材料可适用于半导体及显示仪器之制造业的仪器零件或组件。 |
| 主权项 |
1.一种聚苯并咪唑材料,其重复单位如式(I)构造所 示, (其中R1系表示于重覆单位中经氮原子对称取代的 四价芳香族化合物;R2系表示于重覆单位中选自具2 至20个碳原子之脂肪基、脂环基或芳香基的二价 基;于重覆单位中R3及R4彼此相同或不相同,各单独 选自氢原子、烷基、芳香基等,此等基亦可被其他 基取代;X系表示于重覆单位中代表直接键结,-O-、- CO-O-等);或为重复单位如式(II)构造所示, (其中R5系表示于重覆单位中一芳香环,具有氮原子 可与芳香环邻接之碳原子形成苯并咪唑环;R6系表 示于重覆单位中为氢原子、烷基、芳香基等,此等 基亦可被其他基取代;X表示于重覆单位中为直接 键结、-O-、-CO-O-等), 该聚苯并咪唑材料之金属(除硷金属与硷土金属之 外)之总浓度低于10ppm。2.如申请专利范围第1项之 聚苯并咪唑材料,其中铬、铁与镍之总金属浓度小 于5ppm。3.如申请专利范围第1项之聚苯并咪唑材料 ,其中铬、铁及镍至少二种之金属浓度各小于1ppm 。4.如申请专利范围第1至3项中任一项之聚苯并咪 唑材料,其中系为以下述构造式所示5.一种如申请 专利范围第1项之聚苯并咪唑材料之制法,其特征 为包含: (1)形成聚苯并咪唑溶液之步骤; (2)过滤凝胶不溶物的后续步骤; (3)将过滤物进料于不会溶解聚苯并咪唑材料之贫 溶剂的后续步骤;及 (4)降低聚苯并咪唑材料之金属浓度至最后所得浓 度的步骤,可于步骤(1)至(3)中至少一步骤期间或之 后进行。6.如申请专利范围第5项之制法,其中在过 滤凝胶不溶物的步骤后,过滤掉大小至少为0.1微米 之微细不溶物,以为附加处理来降低聚苯并咪唑材 料之金属浓度。7.如申请专利范围第5或6项之制法 ,其中在过滤凝胶不溶物的步骤后,添加强酸至聚 苯并咪唑溶液中,以为附加处理来降低聚苯并咪唑 材料之金属浓度。8.如申请专利范围第5或6项之制 法,其中降低聚苯并咪唑材料中之金属浓度至最后 所得的浓度步骤,系于将聚苯并咪唑溶液进料至不 会溶解聚苯并咪唑材料之贫溶剂中之步骤(3)期间 或之后进行皆可,且包含步骤(3)期间于强酸存在下 使用该贫溶剂,以及步骤(3)之后于强酸存在下以该 贫溶剂清洗聚苯并咪唑溶液。 |
