发明名称 METHOD AND DEVICE FOR CLEANING HIGH-VOLTAGE CARRYING INSTALLATION COMPONENT PARTS
摘要 <p>Bei der Erfindung handelt es sich um ein Reinigungsverfahren und eine entsprechende Reinigungsvorrichtung, die es bei ausreichendem Personen-, Geräte- und Anlagenschutz ermöglichen, Bauteile von Anlagen zu reinigen, die eine elektrische Hochspannung führen und nicht freigeschaltet sind. Dazu werden die zu reinigenden Bauteile mit einem Zweiphasen-Partikelstrahl (PS) bestehend aus einem Druckgas (DGA) als Trägermedium und mitgeführten Trockeneispartikeln (TP) beaufschlagt. Durch Kälteversprödung und die kinetische Energie der auftreffenden Trockeneispartikel werden eventuelle oberflächliche Verschmutzungen der Bauteile abgetragen. Die Trockeneispartikel selbst sublimieren rückstandsfrei. Durch ein elektrisch isolierendes Abstandsmittel (L, SFR) - etwa in Form einer Lanze (L) oder eines Strahlführungsrohres (SFR) - wird ein für den Personenschutz ausreichender Sicherheitsabstand des Reinigungspersonals von den hochspannungsführenden Anlagenteilen sichergestellt. Eine weitere Erhöhung ergibt sich durch ein Überwachung des Feuchtigkeitsgehalts von Druckgas und/oder Umgebungsluft, wobei beim Überschreiten vorgegebener Grenzwerte ein Sofortabschaltung der Reinigungsvorrichtung erfolgt.</p>
申请公布号 WO2001068323(A1) 申请公布日期 2001.09.20
申请号 DE2001000994 申请日期 2001.03.15
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利