发明名称 调制用于形成二维图象的入射光束的方法和装置
摘要 一种调制形成二维图象的入射光束的方法和装置。该装置包括多个具有反射表面的长条元件。这些元件通过其各自的受支撑端点而彼此平行地悬浮在基板上方,形成一列按显示单元分组的相邻反射表面。通过在基板上施加电压,每组中有交替的反射表面是变形的。每个变形元件其近似平面的中心区段与每个未变形元件的中心区段相互平行,且有预定的距离。入射到一列相邻反射表面上的光束,遇到交替未变形反射表面时将从一组长条元件反射回来;而遇到交替变形反射表面时将受到其衍射。移动的距离是受控的,或者说反射和衍射周期之间的比率确定了相应显示单元的显示强度。
申请公布号 CN1313957A 申请公布日期 2001.09.19
申请号 CN99809972.4 申请日期 1999.06.18
申请人 硅光机器公司 发明人 D·M·布洛姆;A·戈蒂尔
分类号 G02B26/08 主分类号 G02B26/08
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王岳;张志醒
主权项 1.一种用于调制具有一个波长入射光束的调制器,该调制器包括:a.多个长条元件,其每个都具有位于两端之间的近似平面的反射表面,这些元件彼此平行布置且通过其位于一基板上方的端部而悬空;以及b.用于使选出的长条元件向着基板变形从而进入变形状态的装置,其中每个选出长条元件的近似平面反射表面向着基板移动一个光栅振幅,而该选出长条元件不与基板接触。
地址 美国加利福尼亚州