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发明名称 Method for detecting an end point of etching in a plasma-enhanced etching process
摘要
申请公布号 GB2351349(B) 申请公布日期 2001.09.19
申请号 GB20000014995 申请日期 2000.06.19
申请人 * NEC CORPORATION 发明人 TOSHITAKA * SHIOBARA
分类号 H01L21/302;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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