Verfahren zur Herstellung von extrem reinem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium,申请号CH19600014192-传众专利搜索

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发明名称	Verfahren zur Herstellung von extrem reinem Halbleitermaterial, insbesondere Silizium
摘要
申请公布号	CH426744(A)	申请公布日期	1966.12.31
申请号	CH19600014192	申请日期	1960.12.19
申请人	SIEMENS-SCHUCKERTWERKE AKTIENGESELLSCHAFT	发明人	DR. SCHINK,NORBERT,DIPL.-CHEM.;ROSE,HILDE
分类号	C23C16/24	主分类号	C23C16/24
代理机构		代理人
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