发明名称 Teststruktur bei integriertem Halbleiter
摘要 Mit zunehmender Integrationsdichte integrierter Schaltkreise kann die Packungsdichte in zwischen den integrierten Schaltkreisen liegenden Testbereichen (Kerf-Strukturen) nicht wesentlich erhöht werden, da der größte Teil der zur Verfügung stehenden Fläche von Kontaktflächen eingenommen wird. Die Erfindung ist daher gerichtet auf einen Teststrukturbereich (1) auf einem Wafer mit Kontaktflächen (2) zum Anlegen von Spannungen und Testbauelementen (3) zwischen den Kontaktflächen (2), der dadurch gekennzeichnet ist, dass zumindest zwei Testbauelemente (3) zwischen jeweils zwei benachbarten Kontaktflächen (2) angeordnet sind, welche mit den benachbarten Kontaktflächen (2) verbunden sind, so dass eine Spannung über die Kontaktflächen (2) an die Testbauelemente (3) anlagebar ist.
申请公布号 DE10010285(A1) 申请公布日期 2001.09.13
申请号 DE20001010285 申请日期 2000.02.25
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 RICHTER, FRANK
分类号 G01R31/26;H01L21/66;H01L23/544;(IPC1-7):H01L23/544;H01L29/78 主分类号 G01R31/26
代理机构 代理人
主权项
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