光阻剂硬化装置

摘要

本发明之课题，系提供将被涂布光阻剂的矽晶片真空吸附在工作台，一面加热，冷却而照射紫外线进行光阻剂硬化处理，也不会在矽晶片的背面产生擦伤之光阻剂硬化装置。在由具有照射紫外线的光源部，和将矽晶片真空吸附之工件保持装置及工作温度控制装置的工作台10而成，一面把被保持在工作台上面之矽晶片加热，在矽晶片被涂布的光阻剂照射紫外线使之硬化的光阻剂硬化装置，在工作台上面和矽晶片之间，使由Si，SiO2，SiC， Si3N4中的一种材质而成之板片60介在，以将该板片和矽晶片真空吸附附在工作台之状态照射紫外线。

主权项

1.一种光阻剂硬化装置,在由将紫外线照射的光源部,和将被载置之做为工件的矽晶片真空吸附之工件保持装置,及将工件加热,冷却的工件温度控制装置之工作台而成,一面把被保持在工作台上面的工作加热,而将紫外线照射在工作被涂布的光阻剂使之硬化的光阻剂硬化装置,其特征为,在工作台上面和工件之间,使由Si(矽),SiO2(石英),SiC(碳化矽),Si3N4(氮化矽)中的任何一种材质而成,设有使从工作台的吸附用真空对工件作用之贯通孔的板片介在,以将该板片和工件以工件保持装置真空吸附在工作台之状态照射紫外线。图式简单说明:第一图系本发明实施例之正面图。第二图系板片之平面图。第三图(A)、(B)、(C)系硬化处理方法之说明图。