发明名称 供光罩保护用之框支持膜
摘要 本发明提供一种进步之框支持膜,可供制造精密电子元件时对光石印图型化工程之光罩提供防尘保护作用,其包含一个由硬质膜框;一个由塑性树脂膜制成之高透光性薄膜,以不松弛的方式铺设并黏着结合于膜框的一端表面;以及一层形成在膜框另一端表面上的压敏黏着剂层,以便利安装框支持膜至光罩表面上及固定于正确位置。其特点包含使形成在膜框端表面上的压敏黏着剂层向外凸出成例如桶状圆顶形而非如知技术之平坦表面,以使知技术中在安装知框支持膜时,因为黏着层表面与光罩表面间无可避免会产生空气间隙所造成的问题得以免除。内外表面间压力差对于薄膜气密密封所造成的负面效应可藉由在膜框上提供一个空气逸路穿孔并覆盖滤片而予以解决。
申请公布号 TW454104 申请公布日期 2001.09.11
申请号 TW085107995 申请日期 1996.07.02
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 滨田裕一;田周
分类号 G03F1/00;G03F7/20 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种供光罩防尘保护用之框支持膜,该光罩系于 光石印图型化工程中使用者,框支持膜包含: (a)一个由硬质材料制成而具有两平行端表面之膜 框(1); (b)一个由塑性树脂膜制成之透光薄膜(2),以不松弛 的方式铺设并黏着结合于膜框的一端表面;以及 (c)一层形成在膜框另一端表面上的压敏黏着剂层( 3), 其特征为该黏着剂层(3)系向外凸出于欲黏着至光 罩(5)之部分上,以致其黏着剂层之剖面成为一小于 或等于半圆形之圆弧状。 其特点包含,使压敏黏着剂层表面向外凸出。2.如 申请专利范围第1项之框支持膜,其中形成在膜框 端表面上的压敏黏着剂层之剖面成桶状圆顶形轮 廓。3.如申请专利范围第2项之框支持膜,其中形成 在膜框端表面上的压敏黏着剂层之剖面成桶状圆 顶形轮廓,其中间宽度(为该层从与膜枢接触之表 面算起最大高度之90%高度处测量所得之宽度),在 基层宽的80%至95%范围内。4.一种供光罩防尘保护 用之框支持膜,该光罩系于光石印图型化工程中使 用者,框支持膜包含: (a)一个由硬质材料制成而具有两平行端表面之膜 框; (b)一个由塑性树脂膜制成之透光薄膜,以不松弛的 方式铺设并黏着结合于膜框的一端表面;以及 (c)一层形成在膜框另一端表面上的压敏黏着剂层, 其特点包含,使压敏黏着剂层表面向外凸出,且使 膜框设有至少一个空气逸路开口,并将开口以灰尘 粒子不能透过的透气滤片加以覆盖。5.如申请专 利范围第4项之框支持膜,其中形成在膜框端表面 上的压敏黏着剂层之剖面成桶状圆顶形轮廓。6. 如申请专利范围第5项之框支持膜,其中形成在膜 框端表面上的压敏黏着剂层之剖面成桶状圆顶形 轮廓,其中间宽度(为该层从与膜枢接触之表面算 起最大高度之90%高度处测量所得之宽度),在基层 宽的40%至95%范围内。图式简单说明: 第一图为本发明之框支持膜的放大部份剖面图,其 具有一个剖面呈桶状圆顶形的压敏黏着剂层,且由 一个可剥除片予以暂时保护。 第二图为第一图所示本发明之框支持膜安装于光 罩上时的放大部份剖面图。 第三图为习知具有平坦表面之压敏黏着剂层之框 支持膜的放大部份剖面图,由一个可剥除片予以暂 时保护。 第四图为第三图所示习知框支持膜安装于光罩上 时的放大部份剖面图。在压敏黏着剂层与光罩表 面之间形成有一个气室。 第五图为本发明之膜框与压敏黏着剂层的放大部 份剖面图,用以说明黏着层表面的曲率。
地址 日本