首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Ionenimplantationsanlage und Verfahren zur Überwachung eines Faraday-Käfigs in einer Ionenimplantationsanlage
摘要
申请公布号 DE19860779(C2) 申请公布日期 2001.09.06
申请号 DE19981060779 申请日期 1998.12.30
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD., SUWON 发明人 CHO, YEON-HA;GO, SEOK-HO;LEE, JOON-HO;YUN, JAE-IM
分类号 H01J37/304;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/317 主分类号 H01J37/304
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com