| 主权项 |
1.一种用于清洁树脂密封金属模的清洁装置,包括: 一雷射光产生机具; 一第一反射机具,用于反射雷射光产生机具所产生 的雷射光;及 一第二反射机具,用于自第一反射机具接收所反射 的雷射光,以照射该金属模的内表面。2.如申请专 利范围第1项之清洁树脂密封金属模的清洁装置, 又包括一转动机具,用于转动该第二反射机具。3. 如申请专利范围第1项之清洁树脂密封金属模的清 洁装置,其中该雷射光产生机具是一脉波形雷射产 生机具,其以脉波施加雷射光。4.如申请专利范围 第2项之清洁树脂密封金属模的清洁装置,其中该 雷射光产生机具是一脉波形雷射产生机具,其以脉 波施加雷射光。5.一种清洁系统,包括: 一用于清洁树脂密封金属模的清洁装置,其具有一 雷射光产生机具、一用于反射雷射光产生机具所 产生的雷射光之第一反射机具、及一用于自第一 反射机具接收所反射的雷射光以照射该金属模内 表面的第二反射机具;及 一具有一薄膜的树脂密封金属模,薄膜具备光介质 效应,且形成于金属模之至少一部分。6.一种清洁 系统,包括: 一用于清洁树脂密封金属模的清洁装置,其具有一 雷射光产生机具、一用于反射雷射光产生机具所 产生的雷射光之第一反射机具、一用于自第一反 射机具接收所反射的雷射光以照射该金属模内表 面的第二反射机具、及一用于转动该第二反射机 具的转动机具;及 一具有一薄膜的树脂密封金属模,薄膜具备光介质 效应,且形成于金属模之至少一部分。7.一种清洁 系统,包括: 一用于清洁树脂密封金属模的清洁装置,其具有一 电射光产生机具、一用于反射雷射光产生机具所 产生的雷射光之第一反射机具、一用于自第一反 射机具接收所反射的雷射光以照射该金属模内表 面的第二反射机具、及一用于转动该第二反射机 具的转动机具,该雷射光产生机具是一脉波形雷射 产生机具,其以脉波施加雷射光;及 一具有一薄膜的树脂密封金属模,薄膜具备光介质 效应,且形成于金属模之至少一部分。8.一种用于 清洁树脂密封金属模的清洁方法,包括: 一用于产生雷射光的雷射光产生步骤; 一第一反射步骤,用于反射在雷射光产生步骤所产 生的雷射光;及 一第二反射步骤,用于接收在第一反射步骤所反射 的反射雷射光,以施加雷射光,以照射该金属模内 表面。9.如申请专利范围第8项之用于清洁树脂密 封金属模的清洁方法,其中该金属模具有一薄膜, 薄膜具备光介质效应,且形成于金属模之至少一部 分。10.一种用于清洁树脂密封光属模的清洁方法, 包括: 一用于产生雷射光的雷射光产生步骤; 一第一反射步骤,用于反射在雷射光产生步骤所产 生的雷射光;及 一第二反射步骤,用于接收在第一反射步骤所反射 的反射雷射光,以施加雷射光,以照射该金属模内 表面, 雷射光系以脉波施加至一光介质薄膜,薄膜系施加 于金属模内部,以藉由光氧化与热分解移除金属模 内部的复杂污点,污点含有有机与无机化合物。图 式简单说明: 第一图是侧视图,显示本发明之一清洁树脂密封金 属模的清洁装置,有一金属模正设定于彼: 第二图是在第一图的线A-A'所作之剖视图; 第三图是在第一图的线B-B'所作之剖视图; 第四图显示在一用于本发明的多边形镜之一例;而 第五图显示,在不同状况下,自一光源施加光以照 射之时间与清洁效应之间的关系。 |
