发明名称 HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE
摘要 <p>Hochfrequenz-Plasmaquelle mit einem Trägerelement (1), auf dem eine Magnetfeldspulenanordnung (4), ein Gasverteilungssystem (6) und eine Einheit zur Extraktion eines Plasmastrahls (5) angeordnet sind, wobei sich im Innern der Plasmaquelle zusätzlich ein Hochfrequenz-Anpaßnetzwerk (2) befindet.</p>
申请公布号 WO2001063981(A1) 申请公布日期 2001.08.30
申请号 EP2001001952 申请日期 2001.02.21
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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