| 发明名称 |
Fluorine-containing polymers, resist compositions and patterning process |
| 摘要 |
Polymers having fluorinated ester groups are novel. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained. |
| 申请公布号 |
EP1126322(A3) |
申请公布日期 |
2001.08.29 |
| 申请号 |
EP20010301347 |
申请日期 |
2001.02.16 |
| 申请人 |
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
HARADA, YUJI;WATANABE, JUN;HATAKEYAMA, JUN |
| 分类号 |
G03F7/00;C08F20/22;C08F22/18;C08F22/40;C08F32/00;C08F220/22;C08F222/18;C08F222/40;C08F232/04;C08F232/08;G03F7/004;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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