| 发明名称 |
Porous region removing method and semiconductor substrate manufacturing method |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU737593(B2) |
申请公布日期 |
2001.08.23 |
| 申请号 |
AU19980098176 |
申请日期 |
1998.12.24 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
KIYOFUMI SAKAGUCHI;KAZUTAKA YANAGITA |
| 分类号 |
H01L21/76;C25D11/32;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/20;H01L21/306;H01L21/762;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/30 |
主分类号 |
H01L21/76 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
