| 发明名称 |
Etching unit for HF vapour etching of substrates |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2359416(A) |
申请公布日期 |
2001.08.22 |
| 申请号 |
GB20000021935 |
申请日期 |
2000.09.06 |
| 申请人 |
* ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
FRANZ * LAERMER;ANDREA * SCHILP |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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