| 发明名称 | 具有脱模剂的表面 | ||
| 摘要 | 持续的脱模材料的薄涂层(小于或接近于十亿分之一分子涂层)包括下列公式的化合物:RELEASE－M(X)<SUB>n－1－</SUB>,RELEASE－M(X)<SUB>n－m－1</SUB>Qm或RELEASE－M(OR)<SUB>n－1－</SUB>,其中,RELEASE是在长度上4到20个原子的分子链,M是金属原子、半导体原子或半金属原子,X是卤素或氰基,特别是CI、F、Br,Q是氢、烃基基团,R是氢、烃基、苯基,较好是1到4个碳原子的氢或烃基;n－m－1至少是1特别用于平板印刷方法和装置,以在基片上涂敷的薄膜中产生超微细(亚－25nm)图形,在该图形中,至少由一个突出的功能部件的铸模被压入基片上支撑的薄膜内。 | ||
| 申请公布号 | CN1309784A | 申请公布日期 | 2001.08.22 |
| 申请号 | CN99808687.8 | 申请日期 | 1999.06.30 |
| 申请人 | 明尼苏达大学董事会 | 发明人 | 斯蒂芬·Y·舒 |
| 分类号 | G03F7/00;B29C33/60 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 戎志敏 |
| 主权项 | 1．一种在基片上支撑的薄膜内形成图形的平板印刷方法，包括步骤：在基片上淀积薄膜，提供具有突出的功能部件和形成在附近的凹槽，功能部件和凹槽具有形成的铸模图形的形状；把铸模压入薄膜，在突出的功能部件下的薄膜的厚度被减小，在薄膜中形成薄区；从薄膜中除去铸模；处理浮雕，因此，除去薄区，暴露了薄区下的基片的表面部分；基片表面的暴露部分基本上复制了铸模图形，改进包括至少所述突出的功能部件的一部分和所述脱模的一部分已经健合了脱模材料，所述脱模材料包括键合到具有脱模特性的分子链的无机连接基。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||