| 发明名称 | 照相元件,化合物和冲洗加工方法 | ||
| 摘要 | 公开了含光敏卤化银乳剂层的照相元件,乳剂层与具有结构式(Ⅰ)的“NB成色剂”相结合;式中:术语“NB成色剂”代表结构式(Ⅰ)的成色剂,它形成的染料利用自旋－涂布的左带宽(LBW),至少比溶液形式中同样染料的要少5nm;Y是H或偶合脱落基团;每个Z*是独立地选择的取代基,p是0－2;V是含磺酰胺基的取代基;R<SUB>4</SUB>是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团;条件是在V、R<SUB>4</SUB>和全部Z*中脂族碳原子的总和至少是8个。元件提供一种经改进色调的染料。 | ||
| 申请公布号 | CN1309327A | 申请公布日期 | 2001.08.22 |
| 申请号 | CN00137538.5 | 申请日期 | 2000.12.28 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | W·J·贝格利;G·M·鲁索;D·T·库尔特 |
| 分类号 | G03C7/32;G03C7/26;G03C1/08 | 主分类号 | G03C7/32 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 马崇德;王其灏 |
| 主权项 | 1．一种照相元件，含光敏卤化银乳剂层，乳剂层与具有结构式(Ⅰ)的“NB成色剂”相结合：<img file="A0013753800021.GIF" wi="912" he="325" />其中：术语“NB成色剂”代表结构式(Ⅰ)成色剂，它形成的染料利用自旋-涂布的左带宽(LBW)，至少比溶液形式中同样染料的要少5nm；Y是H或偶合脱落(coupling-off)基团；每个Z<sup>*</sup>是独立地选择的取代基，p是0-2；V是含磺酰胺基的取代基；R<sub>4</sub>是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团；条件是在V、R<sub>4</sub>和全部Z<sup>*</sup>中脂族碳原子的总和至少是8个。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||