首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
GAS DISTRIBUTION SYSTEM FOR A CVD PROCESSING CHAMBER
摘要
申请公布号
KR20010080441(A)
申请公布日期
2001.08.22
申请号
KR1020017006031
申请日期
2001.05.12
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
一种工位间卡板式料框拖拽滑动机构
套筒件外观检测设备的上料装置
折盒机的传送机构
一种高效包装袋封口装置
氢等离子体熔融还原炼铁系统
一种欧冶炉煤尘回收装置
一种水冷式波纹补偿装置
一种高炉渣储料和分配装置
线粒体乙醛脱氢酶代谢能力检测试剂盒
用于原位检测分析微生物相互作用的装置总成
一种食物垃圾处理装置
发酵类果蔬饮料用菌种自动活化机
药敏试验纸片法快速贴片装置
用于绝经后妇女骨质疏松风险检测的试剂盒
新型微生物安全操作柜
一种生物基因提取仪器
一种中心转动式翻醅机
高温堆积箱
一种巨型酒精发酵罐
一种葡萄酒发酵装置