| 主权项 |
1.一种用于一步进扫描式微影投影装置之投影镜系统,系利用一EUV光束将一目标平面中之一光罩图案成像在一成像平面中之一基材上,该系统具有一环形区段形状之目标场及一环形区段形状之成像场,其特征在该系统之具有五成像镜面数。2.如申请专利范围第1项之投影镜系统,其特征在系统具有0.20之一数値孔径及0.25之倍率M。3.如申请专利范围第1项之投影镜系统,其特征在系统自目标平面至成像平面依序包含一凹状第一镜面、一凸状第二镜面、一凹状第三镜面、一凸状第四镜面及一凹状第五镜面,且目标平面位于第二、五镜面之间。3.如申请专利范围第1项之投影镜系统,其特征在系统系在成像侧之远方中心。5.如申请专利范围第1项之投影镜系统,其特征在光瞳系位于第一、二成像镜面之间。6.如申请专利范围第1项之投影镜系统,其特征在所有成像镜面皆具有非球面。7.如申请专利范围第1至6项中任一项之投影镜系统,其特征在目标平面系位于第二、五成像镜面之间,及用于一反射性遮光罩与其基座之空间系预留于诸镜面之间。8.如申请专利范围第1至6项中任一项之投影镜系统,其特征在一平面镜面设置于第一、二成像镜面之间,及目标平面系位于投影系统外侧。9.如申请专利范围第8项之投影镜系统,其特征在平面镜面具有一类球状校正表面。10.一种用于将一存在于遮光罩内之遮光罩图案以步进扫描方式成像至一基材之多数区域上之微影装置,该装置包含一备有一EUV光源之照射单元、一容置一遮光罩之遮光罩基座、一容置一基材之基材基座、及一投影系统,其特征在投影系统包含一如申请专利范围第1至6项中任一项之投影镜系统。图式简单说明:第一图揭示本发明投影系统之第一实例,第二图简示包含此一投影系统之一微影装置实例,及第三图、第四图揭示投影系统之一第二及一第三实例。 |
