发明名称 半导体装置之制造方法
摘要 本发明提供一种半导体装置之制造方法,该制造方法系将固体装置的表面与半导体晶片之表面作相对向接合。将固体装置表面上所隆起形成之金属电极部与半导体晶晶片表面上所隆起形成之金属电极部直接连接并相互按压。在此状态中,对相互按压之金属电极部施予超音波振动,使金属电极部能够相互接合。
申请公布号 TW451376 申请公布日期 2001.08.21
申请号 TW089112810 申请日期 2000.06.29
申请人 罗沐股份有限公司 发明人 柴田和孝;上田茂幸
分类号 H01L21/607 主分类号 H01L21/607
代理机构 代理人 洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;陈昭诚 台北巿武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种半导体装置之制造方法包含:使固体装置表面与半导体晶片表面相对向之过程,将前述固体装置表面所隆起形成的金属电极部与前述半导体晶片所隆起形成的金属电极部直接连结并相互按压之过程、对相互按压之金属电极部施予超音波振动而使金属电极部相互接合之过程。2.如申请专利范围第1项之方法,其中,与前述固体装置相接合之前述半导体晶片系另一半导体晶片。3.如申请专利范围第1项之方法,其中,前述固体装置系配线基板。4.如申请专利范围第1项之方法,其中,于前述固体装置及半导体晶片所隆起形成之金属电极部系由金所构成之隆起物。5.如申请专利范围第1项之方法,其中,前述超音波振动系输入于前述半导体晶片或固体装置,以传达过半导体晶片或固体装置而施加于半导体晶片的金属电极部和固体装置的金属电极部之接合面。图式简单说明:第一图A、第一图B及第一图C为图解剖视图,该图系以制程步骤显示本发明实施例之半导体装置制造方法。
地址 日本